发明名称 半导体装置
摘要 〔课题〕提供可同时改善IGET的动作及逆导通机能两者特性的半导体装置。〔解决手段〕此半导体装置1A,包括P扩散区域23,与P扩散区域9、11分离形成于N^–磊晶层5的表面层上;N^+ 散区域25,在P扩散区域23的表面层上由P扩散区域23围绕而形成;第2集极电极19b,设置于N^+扩散区域25且与第1集极电极19a连接;以及电极27,跨设P扩散区域23及^N–磊晶层5间,构成N^–磊晶层5至P扩散区域23的导电路径。
申请公布号 TW200608572 申请公布日期 2006.03.01
申请号 TW094102867 申请日期 2005.01.31
申请人 三菱电机股份有限公司 发明人 寺岛知秀
分类号 H01L29/78 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本