| 摘要 |
특히, 유기계 현상액을 이용하여 미세화(예를 들면, 30nm 노드 이하) 패턴을 형성하는 네거티브형 패턴형성방법에 있어서, 파티클의 발생을 저감가능한 화학증폭형 레지스트막의 패터닝용 유기계 처리액, 화학증폭형 레지스트막의 패터닝용 유기계 처리액의 수용 용기, 및 이들을 사용한 패턴형성방법, 전자 디바이스의 제조방법 및 전자 디바이스를 제공할 수 있다. 화학증폭형 레지스트막의 패터닝용 유기계 처리액으로서, 탄소수 22개 이하의 알킬올레핀 함유량이 1ppm 이하이고, 또한 Na, K, Ca, Fe, Cu, Mg, Mn, Li, Al, Cr, Ni, 및 Zn의 금속원소 농도가 모두 5ppm 이하인 화학증폭형 레지스트막의 패터닝용 유기계 처리액, 및 이들을 사용한 패턴형성방법, 전자 디바이스의 제조방법 및 전자 디바이스. |
