| 摘要 |
일 양태에서, 300 mm 웨이퍼들 상에서의 PECVD (plasma-enhanced chemical vapor deposition) 를 위해 설계된 프로세싱 챔버로 하여금 200 mm 웨이퍼들 상에서 수행되도록 하는 몇몇 장치들이 기술된다. 보다 구체적으로, 200 mm 웨이퍼들을 위해 설계되고 300 mm 웨이퍼 프로세싱 챔버들과 호환가능한 수정된 페데스탈, 캐리어 플레이트, 및 샤워헤드가 기술된다. 수정된 200 mm 장치들을 사용하여 증착된 막들은 수정된 200 mm 장치들이 대체하는 300 mm 디바이스들을 사용하여 증착된 막들과 품질이 비슷하다는 것이 또한 관찰되었다. |
