发明名称 METHOD FOR REGULATING A LIGHT SOURCE OF A PHOTOLITHOGRAPHY EXPOSURE SYSTEM AND EXPOSURE ASSEMBLY FOR A PHOTOLITHOGRAPHY DEVICE
摘要 본 발명은 복수개의 LED를 포함하는 포토리소그래피 노광 시스템의 광원을 조절하는 방법으로서, 상기 방법은: 특정 파장 범위의 개별 LED의 광출력을 검출하는 단계; 및 전체 스펙트럼에 걸쳐 검출된 광출력을 소망된 광출력 분포와 비교하는 단계를 포함한다. LED는 소망된 스펙트럼 광출력 분포가 가능한 가장 정확한 방식으로 달성되도록 동작된다. 본 발명은 또한 복수개의 LED를 포함하는 광원, 개별 LED에 공급되는 전력을 제어하는 제어 수단, 및 개별 파장 범위의 LED의 광출력을 검출할 수 있는 센서를 갖는 포토리소그래피 장치를 위한 노광 어셈블리에 관한 것이다.
申请公布号 KR20160118134(A) 申请公布日期 2016.10.11
申请号 KR20160034692 申请日期 2016.03.23
申请人 SUSS MICROTEC LITHOGRAPHY GMBH 发明人 KAISER PAUL
分类号 G03F7/20;H01L21/027;H01L25/16;H01L27/15 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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