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发明名称
SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
摘要
복수의 기판에 대하여 처리를 실시하는 기판 처리 시스템은, 복수 매의 기판을 수용해서 소정의 처리를 실시하는 원환 형상의 처리 챔버와, 복수 매의 기판을 수용하는 카세트를 적재하는 카세트 적재부와, 당해 처리 챔버와 당해 카세트 적재부와의 사이에서 기판을 반송하는 기판 반송 기구를 갖고, 당해 처리 챔버 내에는, 복수의 기판이 평면에서 볼 때 동심원 형상으로 배치된다.
申请公布号
KR20160127797(A)
申请公布日期
2016.11.04
申请号
KR20167026835
申请日期
2015.02.27
申请人
TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人
FUJINO YUTAKA
分类号
H01L21/677;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/54;H01L21/67
主分类号
H01L21/677
代理机构
代理人
主权项
地址
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