发明名称 SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
摘要 복수의 기판에 대하여 처리를 실시하는 기판 처리 시스템은, 복수 매의 기판을 수용해서 소정의 처리를 실시하는 원환 형상의 처리 챔버와, 복수 매의 기판을 수용하는 카세트를 적재하는 카세트 적재부와, 당해 처리 챔버와 당해 카세트 적재부와의 사이에서 기판을 반송하는 기판 반송 기구를 갖고, 당해 처리 챔버 내에는, 복수의 기판이 평면에서 볼 때 동심원 형상으로 배치된다.
申请公布号 KR20160127797(A) 申请公布日期 2016.11.04
申请号 KR20167026835 申请日期 2015.02.27
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 FUJINO YUTAKA
分类号 H01L21/677;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/54;H01L21/67 主分类号 H01L21/677
代理机构 代理人
主权项
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