发明名称 SUPPORT UNIT AND APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE WITH THE SUPPORT UNIT
摘要 본 발명은 기판을 지지하는 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 지지 유닛은 내부에 냉각 유로를 가지는 바디를 포함하되 상기 냉각 유로는 외부로부터 냉각 유체를 공급받는 공급구와 외부로 상기 냉각 유체를 배출하는 배출구와 상기 냉각 유체가 유입되는 유입단과 상기 냉각 유체가 유출되는 유출단을 각각 가지며, 서로 동심을 가지는 복수의 메인 유로와 상기 공급구와 상기 메인 유로들 중 가장 내측에 제공된 메인 유로 또는 가장 외측에 제공된 메인 유로 중 어느 하나의 상기 유입단을 연결하는 공급 라인과 상기 배출구와 상기 메인 유로들 중 가장 내측에 제공된 상기 메인 유로 또는 가장 외측에 제공된 상기 메인 유로 중 다른 하나의 상기 유출단을 연결하는 배출 라인과 그리고 인접하는 상기 메인 유로들 중 어느 하나의 메인 유로의 유출단과 다른 하나의 메인 유로의 유입단을 연결하는 연결 라인을 포함하되 상기 배출 라인과 상기 공급 라인 중 어느 하나는 각각의 상기 메인 유로들의 상기 유입단과 상기 유출단의 사이를 지나도록 제공되는 지지 유닛을 포함한다.
申请公布号 KR101664189(B1) 申请公布日期 2016.10.11
申请号 KR20140182641 申请日期 2014.12.17
申请人 주식회사피에스디이 发明人 김선빈
分类号 H01L21/683 主分类号 H01L21/683
代理机构 代理人
主权项
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