formar padrões ocultas em substratos porosos

摘要

resumo patente de invenção: "formar padrões ocultas em substratos porosos". a presente invenção refere-se a um método para fabricar substratos porosos providos com padrão e gravação colorida oculta para formar gravações hidrofóbicas em uma superfície hidrofílica, em que canais estruturais são formados como padrão em um substrato poroso, usando uma solução de impressão hidrofóbica sem corante, e em que a área colorida é aplicada à superfície posterior do substrato poroso. ademais, a presente invenção refere-se ao citado substrato poroso provido com um padrão e a um método para levar a citada padrão para o estado visível.