发明名称 |
显示器件的制造方法和显示器件 |
摘要 |
本发明提供一种在阳极反射电极的蚀刻形成中能够减少残渣的显示器件的制造方法和该残渣少的显示器件。在该显示器件的制造方法中,形成从衬底侧依次层叠了第一透明导电膜、金属膜和第二透明导电膜的三层层叠构造,上述三层层叠构造形成配置于像素区域的多个阳极电极和与上述像素区域相邻配置的多个虚设电极,对上述第二透明导电膜和上述金属膜进行蚀刻,对上述第一透明导电膜进行蚀刻,上述多个虚设电极的图案的密度随着从上述像素区域离开而减少。 |
申请公布号 |
CN106058077A |
申请公布日期 |
2016.10.26 |
申请号 |
CN201610210131.1 |
申请日期 |
2016.04.06 |
申请人 |
株式会社日本显示器 |
发明人 |
观田康克;会田政胜 |
分类号 |
H01L51/56(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/56(2006.01)I |
代理机构 |
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 |
代理人 |
邸万杰 |
主权项 |
一种显示器件的制造方法,其特征在于:形成从衬底侧依次层叠了第一透明导电膜、金属膜和第二透明导电膜的三层层叠构造,所述三层层叠构造形成配置于像素区域的多个阳极电极和配置于所述像素区域的外侧的多个虚设电极,对所述第二透明导电膜和所述金属膜进行蚀刻,对所述第一透明导电膜进行蚀刻,所述多个虚设电极的图案的密度随着从所述像素区域离开而减少。 |
地址 |
日本,东京都 |