发明名称 无铬或含低铬之金属表面钝化处理
摘要
申请公布号 TW036328 申请公布日期 1981.04.01
申请号 TW06911260 申请日期 1980.05.02
申请人 礼查森化学公司 发明人 JOSEPH L. GREENE
分类号 C23C22/00 主分类号 C23C22/00
代理机构 代理人 蔡中曾 台北巿敦化南路一段二四五号八楼
主权项 1﹒配制一种用以钝化处理具金属表面之基质之酸性含水处理浴之方法,其特点在于该处理浴包括:一有机活化剂,该有机活化剂系选自羧酸,其可溶于处理浴之衍生物以及其混合物群中,与一种或多种可溶于处理浴中之薄膜形成剂,该薄膜形成剂中至少一种为不含熔之薄膜形成剂,选自氟化物盐类。草酸盐类,丙二酸盐,丁二酸盐类,和其混合物中,该不含铬之薄膜形成剂包括一非铬的薄膜形成元素,其在具有金属表面之基质上形成一层薄的,粘附且相互密合的疏水性钝化,(不活性)被覆层,该薄膜形成元素系选自铝,矽,钛,钒,铁,钴,钼,铈和其混合物群中。2﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中该不含铬之薄膜形成剂系选自下列群中:钛氟化钾,硫酸铈,硝酸铁铝氟化钠,偏钒酸钠,原钒酸钠,硫酸钛氟硼酸钛,矽氟化钠,钼酸铝,硫酸钴,铁氟化铝,硫酸亚铁,钛草酸钾,和其混合物。3﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中该不含铬之薄膜形成剂为可溶于处理浴之氟化铬合物,包括至少一种所述之非铬薄膜形成元素。4﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中所述钝化处理浴包含若干所述之可溶于处理浴之不含铬薄膜形成剂,其中至少一种为可溶于处理浴之氟化铬合物。5﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中该有机活化剂增进钝化反应速率,该羧酸含有约2至12碳原子且系选自多羟基羧酸,多元羧酸和其混合物群中。6﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中该有机活化剂系选自庚糖酸,草酸,丙二酸,丁二酸,其盐和酯衍生物,以及其混合物群中。7﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中该有机活化剂有下列结构:XOOC(CH2)nCOOX,式中之n为0或1,而X为氢,硷金属,硷金属过渡金属铬合物,或铵。8﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中该处理浴包含以处理浴总体积计,至少约0﹒2gm/1之所述不含铬薄膜形成剂,以及最高达约7﹒5gm/1之所述有机活化剂。9﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中该处理浴尚包含一非为所述有机活化剂之可溶于处理浴之活化剂化合物。10﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中该活化剂化合物以处理浴总体积计,以介于约0﹒1至约5gm/1之间的浓度存在于处理浴中。11﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中该处理浴尚包含一缓冲剂,以处理浴总体积计,存在之浓度最高约5gm/1。12﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中所述薄膜形成剂另一者为含铬之化合物。13﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中所述薄膜形成剂另一者包含铬,该另一薄膜形成剂在处理浴中之浓度,以处理浴总体体积,不大于约0﹒5gm14﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中所述处理浴之操作pH范围介于足以防止化学性抛光及腐蚀金属表面之値和足以维持所要钝化反应速率之値两者之间。15﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中所述处理浴之操作pH范围介于约1﹒5和约3﹒5之间。16﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中所述处理浴之操作pH范围介于1﹒7和约2﹒3之间。17﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中所述之处理浴包含,以处理浴总体积计,至少约0﹒2gm/1之所述不含铬薄膜形成剂,介于0﹒005和0﹒20莫耳浓度之氢离子供给源,以及最高达约7﹒5gm/1之所述有机活化剂。18﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中所述之处理浴尚包含最高达约5gm/1,以处理浴总体积计,之氟硼酸,其铵盐或硷金属盐,或其混合物。19﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中所述之有机活化剂浓度在约0﹒25和约4﹒5gm/1之间,以处理浴总体积计,且所述之羧基系选自多羟基羧酸,多元羧酸,以及其混合物群中。20﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中所述之不合铬薄膜形成浓剂度介于约0﹒4gm/1和约6gm/1之间,以处理浴总体积计。21﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中所述之有机活化剂浓度系介于约0﹒25和约4﹒5gm/1之间,以处理浴总体积计,且具下列结构:XOOC(CH2)nCOOX式中n为0或1,而X为氢、硷金属、铵或过渡元素铬合物。22﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其包含一含氟化物之化合物,其浓度最高达约该化合物在总处理浴之溶解度限。23﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中该薄膜形成元素系选自铝、矽、钛、钒和其混合物群中。24﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中所述金属表面为镀锌表面而被覆层为明亮的钝化(不活性)被覆层。25﹒如上述请求专利部份第1项所述之钝化处理浴之配制方法,其中所述金属表面为选自镀锌表面(Zincplatedsurface),镀锌表面(galvanizedsurface),铜,铝,黄铜,锤镀锌,镀锌钢,滚辗锌箔和锌模铸。26﹒配制一种用以钝化处理金属基质之处理浴之方法,其特点在于该处理浴包括一钝化组合物,其有一活化剂和一种或多种薄膜形成剂,该薄膜形成剂包括至少一薄膜形成元素,其在酸性含水处理浴环境中与金属基质反应,形成一与金属基质合为一体之钝化(不活性)被覆层,其改良之处包含该钝化组合物为一可溶于处理浴之有机活化剂选自羧酸,其盐类,其酯类,草酸铬合盐,丙二酸铬合盐,丁二酸铬合盐,及其混合物群中),与一不含铬之薄膜形成剂(选自氟化物盐,草酸盐,丙二酸盐,丁二酸盐,及其混合物群中)之组合,该不含铬之薄膜形成剂包含一薄膜形成元素,选自铝,矽,钛,钒,铁,钴,钼,铈及其混合物群中。27﹒如上述请求专利部份第26项所述之钝化处理浴之配制方法,其中所述组合物加入处理浴中之浓度为每升处理浴最高达大约25克。
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