| 主权项 |
1﹒一种起临界压力单程流通式蒸汽产生器用以在减低负载下滑动压力运转进入次临界压力范围,包含:用于高负载时超临界压力下及低负载时次临界压力下运转该蒸气产生器之控制装置;一炉;围绕该炉周边衬置各壁之各垂直管,各该管作平行流动配置并连续通过该炉之高度;设置于各该管内之内部流动激励装置且实质上遍及其金部加热之长度;一蒸汽一水分离装置;用于将脱离该等管之流体传送至该分离装置之装置;一过热器;用于将蒸汽自该分离器传送至该过热器之装置;用于选择地引导脱离各该管之流体金部液流通过该过热器之装置;给水补充装置;将给水传送至该等管之装置;用于该蒸汽产生器在极低负载运转时,运送超越通过该过热器之液流通过各该管之装置;以及按不同各管之预计全载热量吸收之比例,将液流分配至各该垂直管之固定装置。2﹒根据上述请求专利部份第1项之一种装置,其中用于传送液流之装置包含;用于将水从该蒸汽分离装置运送至各该管之装置,及用于低负载时将水自该分离装置通过各该管循环之泵装置。3﹒根据上述请求专利部份第2项之一种装置,其中该泵之大小为再循环少于全载液流之50%者。4﹒根据上述请求专利部份第3,项之一种装置,其中该泵之大小为再循环少于全载液流之30%者。5﹒根据上述请求专利部份第1项之一种装置,其中该内部流动激励装置,包含在该垂直管内之内部来福线。6﹒根据上述请求专利部份第1项之一种装置,其中该固定装置包含为节制进入该等垂直管之液流之各孔口。7﹒根据上述请求专利部份第2项之一种装置,其中该内部液流激励装置包含在该等垂直管内之内部来福线。8﹒根据上述请求专利部份第7﹒项之一种装置,其中该固定装置包含为节制进入该等垂直管液流之各孔口。9﹒根据上述请求专利部份第8项之一种装置,其中该泵之大小为再循环少于全载液流之50%者。10﹒根据上述请求专利部份第9﹒项之一种装置,其中该泵之大小为再循环少于全载液流之30%者。11﹒根据上述请求专利部份第2项之一种装置,其中该固定装置包含为以节制进入该等垂直管液流之各孔口。12﹒根据上述请求专利部份第11项之一种装置,其中该泵之大小为再循环少于全载液流之50%者。 13﹒为一超界压力单程流通式蒸汽产生器用于在减低负载下滑动压力运转进入次临界压力范围,包含:控制装置用于在高负载超临界压力及在低负载次临界压力下操作该蒸汽产生器者;一炉;围绕该炉周边衬置于炉壁之各垂直管,各该管作平行流动配置且连续通过该炉之高度,同时遍及加热高度内部制成来福线;一蒸汽一水分离器;用于将脱离该等管之流体传送至该分离器之装置;一过热器;用于将蒸汽自该分离器传送至该过热器之装置;用于选择地导引脱离各该管之全部液流通过该过热器之装置;给水补给装置;用于传送给水至各该管之装置;用于在该蒸汽产生器极低负载运转时,将来自该分离器通过各管之水再循环之泵装置;及按各管预定全负载热量吸收之比例将液流分配至各该垂直管之各孔口。14﹒根据上述请求专利部份第13﹒项之一种装置,其中该泵之大小系再循环全负载液流之50%者。15﹒根据上述请求专利部份第1﹒项之一种装置,其中管间隔与大小之选定为全负载时进入各该垂直管之质量流动大于1,000公斤/秒/平方公尺。16﹒根据上述请求专利部份第10﹒项之一种装置,其中管间隔与人小之选定为全负载时进入各该垂直管之质量流动大于1,000公斤/秒/平方公尺。17﹒根据上述请求专利部份第1项至16项任一项之一种装置,其中各该垂直管大小与间隔之选定为在全载时进入各该管之水之质量流动及其以公斤/秒/平方公尺单位所测量者应大于d+5除以0﹒0125,式中d为管之内径,量计单位为厘。18﹒根据上述请求专利部份第1至10﹒项之一种装置,其中各该管之大小与间隔应为,以厘为单位测量之内径,大于0﹒0125W─5,式中W为进入各该管之全负载质量流,并以公斤/秒/平方公尺为测量单位。19﹒根据上述请求专利部份第1至14项任一项之一种装置,其中全负载时通过各该垂直管之摩擦压力降,少于在各该管内流体静落差之四倍。20﹒一种用于在次临界压力范围内滑动压力运转之单程流通式蒸汽产生器,包含:一炉;环绕该炉周边衬置于炉壁之垂直诸管,各该管成平行流动配置且连续遍及该炉之高度;设置于各该管内实质上遍及其全部加热高度之内部液流激励装置;一蒸汽一水分离装置;用于将脱离各该管之流体管送至该分离装置之装置;一过热器,用以将来自该分离器之蒸汽传送至该过热器之装置;用于选择地导引脱离各该管之全部液流通过该过热器之装置;给水补充装置;用于传送给水至各该管之装置;用于该蒸汽产生器极低负载运转时传送超越通过该过热器之液流通过各该管之装置;用于按各下同管之预定全载热量吸收之比例分配液流至各该垂直管之固定装置;及各谓垂直管之大小与间隔应为全载时及测量单位/公斤/透/平方公尺之进入各该管之水之质量流动,应少于d+5除以0﹒0125,式中d为测量单位 为厘之管内径。21﹒一种起临界压力单程流通式蒸汽产生器用于在小负载时滑动压力运转进入次临界压力范围者,包含:用于在全负载超临界压力及在低负载次临界压力时操作该蒸汽产生器之控制装置;一炉;围绕该炉周边衬置炉壁之诸垂直管,各该管成平行流动配置连续遍及该炉高度;设置于各该管内且实质上遍及其全部加热长度之内部液流激励装置;一种蒸汽一水分离装置;用于传送脱离各该管之流体至该分离装置之装置;一过热器;用于从该分离装置传送蒸汽至该过热器之装置;用于选择地导引脱离各该管之流体全部流动通过该过热器之装置;给水补充装置;用于传送给水至各该管之装置;用于该蒸汽产生器极低载运转时传送超越通过热器之液流通过各该管之装置;用于按各不同管之预定全载热量吸收比例分配液流至各该垂直管之固定装置;及其中在全负载时,通过该等垂直管之摩擦压力降系低于在各该管内流体静落差之四倍。22﹒根据上述请求专利部份第20﹒或21﹒项之一种装置,其中用于传送一种液流之装置包含:用于将水自该蒸汽分离装置传送至各该管之装置;及用于在低负载下将水自该分离装置再循环通过各该管之泵装置。23﹒根据上述请求专利部份第22项之一种装置,其中该泵之大小为再循环少于全载液流之﹒50%。24﹒根据上述请求专利部份第23﹒项之一种装置,其中该内部液流激励装置包含在各该垂直管内之内部来福线。25﹒根据上述请求专利部份第24﹒项之一种装置,其中该泵之大小为再循环少于全载液流230%。26﹒根据上述请求专利部份第25﹒项之一种装置,其中该固定装置包含诸孔口,其配置为节制进入该等垂直管之液流。27﹒根据上述请求专利部份第22项之一种装置,其中该内部液流激励装置包含在各该垂直管内之内部来福线。28﹒根据上述请求专利部份第27﹒项之一种装置,其中该固定装置包括各孔口,其配置为节制进入各该垂直管之液流。 |
