发明名称 ╳唑并 唑衍生物及彼等之制法
摘要
申请公布号 TW041260 申请公布日期 1982.01.16
申请号 TW06911803 申请日期 1980.06.30
申请人 中外制药株式会社 发明人 田中贞夫;白木弥寿之;松永功 等十人;藤村保夫
分类号 A61K31/41;C07D487/04 主分类号 A61K31/41
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1﹒一种制备具有如下结构之化合物的方法: 其中 R1系一氢原子,卤素原子,羟基,一种C1─ C4烷基元,一种C1─C4烷氧基元,氧基 元;R2系一氢原子,卤素原子,一种C1─C 4烷基元或基元,但R1及R2不同时为氢; X是卤化物离子,甲磺酸离子,对一甲苯磺酸 离子,醋酸离子,苯甲酸离子,或水杨酸 离子。此法系使如下二种结构式所示之化合物 中至少其一进行环化作用。其中R1和R2的定 义如上;Y系卤素原子。并且,当R1系一氧 基元时,可随意地移去一个基元或随意地以其 他阴离子与X^─上的阴离子交换。 2﹒如请求专利部份第1项中所请求的一种方法,其 中环化作用系在惰性有机溶剂中施行。 3﹒如请求专利部份第1或2项中所请求的一种方法 ,其中,此方法系于50─150℃的温度下施 行。 4﹒如请求专利部份第1项中所请求的一种方法,其 中,此环化作用系施行在化合物(II)和(I II)的混合物上。 5﹒如请求专利部份第1项中所请求的一种方法,其 中,阴离子之交换系藉应用离子交换树脂而达成 。 6﹒如请求专利部份第1项中所请求的一种方法,其 中,基元之移除系于一种有机溶剂内,于一种 催化剂之存在下,于室温至50℃间之温度,藉 催化性还原作用而达成。
地址 东京都北区浮间5丁目5番1号