发明名称 药用抗菌组成物之制法
摘要
申请公布号 TW041259 申请公布日期 1982.01.16
申请号 TW06811803 申请日期 1979.08.09
申请人 富山化学工业股份有限公司 发明人 才川勇;田井贤;保田隆;高下宽 等8人
分类号 A61K31/545;C07D501/28;C07D501/36 主分类号 A61K31/545
代理机构 代理人 陈世雄 台北巿大安区一○六六一敦化南路六九五号八楼
主权项 1﹒一种药用抗菌组成物之制法,包括混合当作有 效 成分之如下式头孢子菌素式中R^1为乙醯氧基 ,5─(1─甲基─1,2,3,4─四唑基) 硫基或2─(5─甲基─1,3,4─二唑基 )硫基,R^2为氢或羟基,或其制药容许盐, 及有─内醯胺环之─内醯胺抑制化合物与 任意之固体或液体载体或稀释剂,其中有─内 醯胺环之─内醯胺抑制化合物对头孢子菌素 (I)或其制药容许盐之混合物(重量比或力价 比)为0﹒1─1﹒5。 2﹒依请求专利部分第1项之药用抗菌组成物之制 法 ,其中有─内醯胺环之 ─内醯胺抑制化 合物为一种选自氯唑青霉素,二氯唑青霉素 ,唑青霉素,二甲氧苯基青霉素、氟氯唑青霉素 之─内醯胺抑制青霉素或其如钠盐等制药容 许盐,其对头孢子菌素式(I)或其制药容许盐 之混合比(重量比力价比)为0﹒1─1﹒5, 该式(I)内R^1为5─(1─甲基─1,2 ,3,4─四唑基)硫基,R^2为羟基。 3﹒依请求专利部分第1项之药用抗菌组成物之制 法 ,其中有─内醯胺环之─内醯胺抑制化合 物为一种选自Cefoxitin,7─( ─氰甲硫基乙醯胺基)─7─甲氧基─3[5 ─(1─甲基─1,2,3,4─四唑基)硫代 甲基]─^3─哂吩─4─羧酸,─内醯胺 抑制头孢子菌素或其如钠盐等制药容许盐,其 对头孢子菌素(I)或其制药容许盐之混合比( 重量比或力价比)为0﹒1─1﹒5,该式(I )内R^1为5─(1─甲基─1,2,3,4 ─四唑基)硫基,R^2为羟基。 4﹒依请求专利部份第1项之药用抗菌组成物之制 法 ,其中有─内醯胺环之─内醯胺抑制化合 物为一种克兰酸(clavlanicacid )或克兰酸钾,其对头孢子菌素(I)或其制药 容许盐之混合比(重量比或力价比)为0﹒1─ 1﹒5,该式(I)内R^1为5─(1─甲基 ─1,2,3,4─四唑基)硫基,R^2为羟 基。 5﹒依请求专利部分第1项之药用抗菌组成物之制 法 ,其中组成物乃呈注射剂型。
地址 日本