发明名称 3,5–二–第二丁基–4–羟苯基取代杂环化合物之制法(三)
摘要
申请公布号 TW047588 申请公布日期 1982.11.16
申请号 TW07110618 申请日期 1982.02.18
申请人 山之内制药股份有限公司 发明人 久保一夫;本间弘茂;矶村八州男;本修一
分类号 A61K31/415;C07D513/04 主分类号 A61K31/415
代理机构 代理人 郑自添 台北巿敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.如下式(Ⅰ)3,5-二第三丁基- 4-羟苯基取代杂环化合物及其盐之 制法 式中R1-R4有一为3,5-二第 三丁基-4-羟苯基 其余为氢,卤素,低烷基;羟低烷基 ,胺低烷基,芳基,低烷氧取代芳基 ,、低烷醯,低烷硫基,低烷氧基,低 芳烷基,氰基,或硫氨基,m为o, 1或2,虚线表示有或无双键,此包 括令如下式(Ⅱ)2-胺基 挫 或 2-胺基 挫衍生物 与如下式(Ⅲ)一卤羰基化合物反 应, 式中R1,R2,R3,R4及虚线 同式(Ⅰ)之规定,X为卤素,然后 必要时将所得产品子以氧化,胺甲基 及/或低烷化; 可令2-胺基嚷挫琳衍生物或2-胺 基 唑 衍生物(Ⅱ)物-卤羰基化 合物(Ⅲ)反应来制造;此反应乃令 化合物(Ⅱ)与相当量化合物(Ⅲ) 就地或在如甲醇,乙醇,甲苯,二甲 基甲醯胺,丙酮,氯仿,丁酮,乙酸 乙酯,甲基纤维素乙基纤维素,二乙 二醇二甲醚,乙 等适当溶剂中加热 来制造。反应温度及时间乃依所用溶 剂及原料之种类而适当地选择,但宜 在回流下反应;氧化乃欲得m=l或 2 之化合物(I)即S-氧化物时,可 令相对应硫代化合物与氧化剂在如氯 仿,1,2-二甲氧乙烷,乙酸等溶 剂中依常法反应来制造;至于氧化剂 ,常用10-40%过氧化氢,过苯 甲酸,间氯过苯甲酸等;些时可藉适 当选择如反应时间,反应温度,氧化 剂之量等反应条件,则可得所求之一 氧化物(m=l)或二氧化物(m= 2); 胺甲基化乃欲得R2为胺甲基之 化合物(Ⅰ)时,令R2为氢之化合 物(Ⅰ)与甲醛及胺HN/R5 (但 /R6 R5及R6各为氢,低烷基,或共结 合成环胺基)依Mannich反应进行; 低烷醯化乃欲得R2为低烷醯之化合 物(Ⅰ)时,令R2为氢之化合物( Ⅰ)与如乙醯氯等低烷醯卤及加乙 等 依常法反应来制造; 还原乃欲得R2为羟甲基之化合 物(Ⅰ)时,以如氢硼化钠等还原剂还 原来制造; 氰化乃欲得R2为氰基之化合物 (Ⅰ)时,用Vilsmeier试剂依常法 反应后,将产品与羟胺反应来制造; 硫氰化乃欲得R2为硫氰基( -SCH)之化合物(Ⅰ)时用如硫氰 酸钠等硫氰酸盐及溴反应来制造; 低烷化乃欲得R2为低烷硫基之 化合物(Ⅰ),用低烷化剂依常法反 应来制造;至于低烷化剂可用如甲基 碘,乙基碘等低烷基卤化物。
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