发明名称 支持轨道
摘要
申请公布号 TW053732 申请公布日期 1983.10.01
申请号 TW07224625 申请日期 1982.05.24
申请人 西屋电气公司 发明人 巴屈瑞西亚 安.库里可史基;艾林 李伊 巴尔姆鲍斯;查尔兹 罗纳 迪柯
分类号 E04C2/38 主分类号 E04C2/38
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.一种支持轨道,用作装嵌于一对侧向隔开垂直布置有槽孔支柱上来将若干文件处理托盘或类似物加以装嵌及支持,其特征为:一细长大致矩形轨道构件包括一前壁,一后壁,及顶壁与底壁,构成至少一内格;在该前壁中一细长槽孔,与该至少一内格相通;及装嵌用夹持机构,在其上具有结构及安排为啮合该等有槽孔支柱之连接器机构,而该等夹持机构系固紧于该轨道构件邻近其各端之后壁上。2.请求专利部份第1.项之支持轨道,其特征为该装嵌用夹持机构为一L形托架,其一腿部中有一细长槽孔而其另一腿部中有连接器机构。3.请求专利部份第2.项之支持轨道,其特征为轨道构件在其后壁上包括上下装嵌用凸缘,而L形托架一腿部系可承装于该上下嵌装用凸缘之间。4.请求专利部份第2.或3.项之支持轨道,其特征为连接器机构为若干隔间的T形连接器。5.请求专利部份第1.至4.项任一项的支持轨道,其特征为一腹板构件将前壁与后壁相连接,因而将该至少一格分为一上格与一下格。6.请求专利部分第5.项之支持轨道,其特征为该前壁中细长槽孔兴该上格相通。7.请求专利部份第6.项之支持轨道,其特征为前壁在细长槽孔以上之部份构成一向下突出的唇部机件,而前壁在细长槽孔以下之部份构成一向上突出的唇部构件,该等向上及向下突出的唇部系适于承装及支持该文件处理托盘或类似物。8.请求专利部份第7.项之支持轨道,其特征为向下突出唇部构件之厚度较向上突出唇部构件之厚度为大。9.请求专利部份第1.至8.项任一项之支持轨道,其特征为细长轨道构件在其各端开口,而端帽构件将其开口末端封闭。10.请求专利部份第9.项之支持轨道,其特征为端帽构件包括一封闭部份及一对与该封闭部份成垂直延伸之突出片构件,该等突出片构件具有一I形横剖面,有一圆形孔洞穿过其中央腹板。11.请求专利部份第10.项之支持轨道,其特征为螺钉机构延伸穿过L形托架中该等细长槽孔,该轨道构件之后壁,及该等突出片构件中央腹板中孔洞,藉以将该等端帽构件与该等装嵌用夹持机构均固紧于该轨道构件。
地址 WESTINGHOUSE BUILDING,GATEWAY CENTER,PITTSBURGH,PENNSYLVANIA15222,U.S.A