发明名称 APPARATUS TO CLEAN SUBSTRATE AND METHOD TO CLEAN SUBSTRATE FOR REDUCTION CHEMICAL
摘要 일 실시예에 따른 기판 세정 장치는, 기판을 지지하여 회전하는 스핀척, 상기 기판 상에서, 세정을 위한 약액을 상기 기판으로 제공하는 분사부, 상기 분사부에 상기 약액을 제공하는 공급원 및 상기 기판으로 분사된 상기 약액이 상기 기판 상에서 정체되도록 상기 약액의 분사량 또는 상기 스핀척의 회전수를 제어하는 제어부를 포함한다. 일 실시예에 따르면, 상기 기판 위의 상기 약액의 퍼들(Puddle) 상태를 형성하여 상기 약액의 낭비를 방지하고 상기 약액이 기판과 접촉되어 있는 시간을 연장 시킴으로써 세정 효과를 향상 시킬 수 있다.
申请公布号 KR20160116638(A) 申请公布日期 2016.10.10
申请号 KR20150044703 申请日期 2015.03.31
申请人 K.C.TECH CO., LTD. 发明人 LEE, JAI HONG
分类号 H01L21/02;H01L21/67;H01L21/683 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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