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发明名称
액체금속욕처리에 관한 회전가스 분산장치
摘要
내용 없음
申请公布号
KR840000920(A)
申请公布日期
1984.03.26
申请号
KR19820003887
申请日期
1982.08.28
申请人
null, null
发明人
쟈끄 지몽 (외 3)
分类号
B22D1/00;B01F3/04;B01F7/00;B01F7/16;B01F15/00;C21C7/072;C22B9/00;C22B9/05;C22B21/06;F27D27/00
主分类号
B22D1/00
代理机构
代理人
主权项
地址
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