PLANAR MAGNETRON SPUTTERING CATHODE,申请号JP19840198386-传众专利搜索

发明名称	PLANAR MAGNETRON SPUTTERING CATHODE
摘要
申请公布号	JPS60152672(A)	申请公布日期	1985.08.10
申请号	JP19840198386	申请日期	1984.09.20
申请人	YUNIBAASHITEI OBU BURITEITSUSHIYU KORONBIA:ZA	发明人	ROBAATO AARU PAASONZU;RICHIYAADO MATSUKUMAAHON;MAIKURU ERU ZAUORUTO
分类号	C23C14/36;C23C14/35;H01J37/34	主分类号	C23C14/36
代理机构		代理人
主权项
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