| 主权项 |
1.一装置用来遮蔽「长条形工件之周围区域,以便进行熔接或热处理操作,前述装置之特点为:包括一对通常为圆筒状的遮罩(52,54)沿轴向分隔分布于操作区之两相反侧,并适于以一预定距离关系包围着工作件,每一遮罩(52,54)包括一第一室(70)其有许多入口(74),连接至-遮蔽气源,以及一轴向出口位于操作区附近;另包括一第二室(86)具有许多入口(94)适于连接至-遮蔽气源,及一圆筒状出口包围着工作件(42),并由操作区向外延伸;且有第一及第二扩散器结构(76'90)分别安置于各罩之第一及第二室之出口,以便使遮蔽气体能更均匀地分布至前述遮罩(52,54)与工作件(42'44)间之操作区中。2.依据请求专利部份第1项之装置中,其特点为,每一第二室(86)中包括多孔性机构,充满了每个遮罩的第二室(52,54)之第二室(86)中包括许多入口(94),沿圆周方向均匀分布。3.依据请求专利部份第2项之装置中,其特点为,前述多孔性机构包括金属纤维,最好是不锈钢丝或镍丝。4.依据请求专利部份第1,2.或3.项之装置其特点为;每一遮罩(52,54)中之前述第一扩散器构造,包括许多层不锈钢筛网,且其网目大小已预先选定。5.依据请求专利部份第1,2.或3.项之装置,其特点为,有一带槽套筒(98)在前述遮罩(52,54)之间延伸,以封闭其中之操作区。6.依据请求专利部份第1至5项任一项之装置,其特点为,-导管可滑动地安置于前述遮罩(52,54)其中之一上,以便将惰气导向操作区及工作件(42,44)面上。7.依据请求专利部份第1至6,任一项之装置,其特点为,挡板机构(82)位于前述遮罩(52,54)之第一室(70)中,藉此增强由入口(79)进入之气体之均匀分布性。8.依据请求专利部份第1项之装置,其特点为,前述第一及第二室(70,86)系藉锥状分隔壁形成于前述遮罩(52,54)中,前述锥状分隔壁与前述遮罩(52,54)与径向多孔性端壁(76 )之间形成前述第一室(70),且系邻近于前述操作区,且前述第二室(86)形成于前述锥状分隔壁与圆筒形多孔性壁(90)之间,并适于包围着前述工作件(42,44)。 |
