发明名称 MULTI-ZONE THERMAL PROCESS SYSTEM UTILIZING NONFOCUSED INFRARED PANEL EMITTERS.
摘要 Dans des procédés conventionnels de soudage par reflux, tels que les procédés de conduction, de convection et en phase vapeur, des éléments sensibles à la température sont souvent endommagés. Dans des systèmes à infra-rouges utilisant des émetteurs focalisés, de grandes différences de température entre les composants et le substrat peuvent également causer des dégâts. Ces problèmes peuvent être résolus par un système à procédé thermique à zones multiples utilisant des émetteurs à panneaux à infra-rouges non focalisés, chacun d'eux émettant uniformément une énergie à infra-rouges diffusée sur toute la surface d'émission. Une enceinte isolée possède une pluralité de zones (1, 3, 4, 5) ayant chacune des émetteurs à panneaux séparés (12, 14, 6, 18, 15, 17, 19) qui chauffent une charge de produit se déplaçant au travers de la zone et à proximité du/des panneau(x) à des longueurs d'ondes maximum différentes dans chaque zone (1, 3, 4, 5). Les émetteurs à panneaux (12, 14, 16, 18, 15, 17, 19) émettent des longueurs d'ondes à infra-rouges dans les régions médianes et éloignées. Les différences de température sur chaque zone (1, 3, 4, 5) et entre le panneau et le produit sont tenues à une valeur minimum.
申请公布号 EP0169885(A1) 申请公布日期 1986.02.05
申请号 EP19850900866 申请日期 1985.01.10
申请人 VITRONICS CORPORATION 发明人 FURTEK, EDWARD, J.
分类号 B23K1/005;B23K1/008;B23K1/19;H05B3/62;H05K3/34;(IPC1-7):B23K1/19 主分类号 B23K1/005
代理机构 代理人
主权项
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