发明名称 创新之X光分散性与反射性结构及制造该等结构之方法
摘要
申请公布号 TW081270 申请公布日期 1986.10.01
申请号 TW073102458 申请日期 1984.06.19
申请人 力能转换装置公司 发明人
分类号 G01T1/00 主分类号 G01T1/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种具有在9.75 、至120 之有利波长范围内之高反射性之X光分散性结构,包括在基体上彼此 置形成之多个溅镀淀积之层对,层对中之每一层由一不同之材料构成,及层对中之一层为金属,另一层则为非金属,个别之各层间具有化学性稳定界面,此系由个别层间同时具有最小之(1)电负性差异;(2)原子直径差异;(3)键长差异所提供;及高反射性系由层与层间之最大电子密度差异所提供;此等层间之界面粗糙性小于1.40 ;上述结构之吸收边缘及其材料之萤光系在有利波长范围之外;以及个别层与各层对具有不变之间隔d,为此分散结构全部厚度之一函数。2.根据请求专利部份第1.项所述之一种X光分散性结构,其中一种材料为选自硼、碳、矽及锗所构成之一组中之非金属及另一种材料为金属。
地址 美国