| 主权项 |
1.一种用之于分析流体之装置,利用一探针以与若干该流体接触,包含:传导配备与该探针联合;阻抗配备,用之在该传导配备接触该在该容器中之该流体时有阈之改变;线路配备,与该线路阻抗配备连接,对在该阻抗之该阈之改变回应下,而产生一控制讯号;及机械配备,与该线路连接,建立之该探针在接受控制讯号之后在该容器中之位置。2.如请求专利部份第1.项之装置,其中该探针有一种配备,将该流体从该容器中移送到试验场所,分析。3.如请求专利部份第1.项之装置,其中该装置包括以支持该容器之底壳。4.如请求专利部份第3.项之装置,其中该阻抗包含电容配备,由该传导配备及该底壳所定规者。5.如请求专利部份第4.项之装置,其中该流体为离子化,而其中该传导配备与该流体之接触,;导至该阻抗配备遭遇该阈之改变。6.如请求专利部份第5.项之装置,其中该传导配备为在该探针之末梢者。7.如请求专利部份第6.项之装置,其中该探针之组成,至少有部份,为导电材料。8.如请求专利部份第7.项之装置,其中该导电材料为聚合物。9.如请求专利部份第8.项之装置,其中该聚合物为聚丙烯塑胶。10.如请求专利部份第7.项之装置,其中该导电材料为金属。 |
