| 主权项 |
1.活动金属片之连续电解处理及(或)加涂层,同时依与金属片移动方向相正支之金属片偏离(畸变)函数,改变此金属片与至少一电极间之间隔之方法,包括之步骤为:(a)依某一时期最値为函数,决定偏离情形,(b)决定由侦检出偏离之时刻以至偏离到达电极之时刻之周期,视间隔变化所需要之时间而减小,(cj决定通过电极所需要之时间,及(d)依上述各步骤所倔决定资料为卤素,调整金属片与电极间之间隔。2.使活动金属片之连续电解处理及(或)加涂层,同时依与金属片移动方向相正交之金属片偏(畸变)函数,改变此金属片与至少一电极间之间隔之方法付诸实施之装置,包括步骤为:(a)依某一时期量为函数,决定偏离情形,(b)决定由侦检出偏离之时刻以至偏离到达电极之时刻之周期,视间隔变化所需要之时间而减小。(c)决定通过电极所需要之时间,及(d)依上述各步骤所决定资料为函数,调整金属片与电极间之间隔,此装置包括:测头装置,此装置于偏离到达电极之前,产生至少一连续或不连续之第一信号,成为金属片偏离之函数,测量装置,此装置产生第二信号作为金属片速度之函数,包含信号扩宽装置之信号处理装置,此装置由第一信号中之最大値产生时起,即依时间使第一信号扩宽,同时保持此最大値作为电极长度之函数和第二信号之函数,以及与信号处理装置相连接之延迟装置,此装置在时间方面使扩宽之第一信号延迟成为测头装置至电极之距离之函数,及第二信号之函数,延迟周期由连接至调整装置之向应而减小,俾调整金属片与电极间之间隔,成为经扩宽和延迟之第一信号之函数。3.根据上述请求专利部份第2.项所述之装置,其中之信号处理装置系采取可自由程式控制和电脑装置之形式。4.根据上述请求专利部份第2.项所述之装置,其信号处理装置包括微处理器装置。5.根据上述请求专利部份第2.项所述之装置,其测头装置包括两绝缘材质之制动构件,由三个以上之U字形内隙所组成,每一内隙藏有活动金属管,各别内隙具有不同深度呈交错模式,每一金属管由弹簧装置推动抵住各别内隙底端,有一挠性导体与每一金属管相连接,依次连接至继电器线圈接端。6.根据上述请求专利部份第2.项所述之装置,其中三可调整电极对依序配置构成一包括外侧和中间位置之电极之组合,其中之中间位置各电极皆连接至具有正负极之DC 电源之正极,而外侧位置各电极连接至该DC 电源之负极上。7.根据上述请求专利部份第6.项所述之装置,其特点为中间位置各电极之长度为外侧位置电极者之两倍。8.根据上述请求专利部份第6,项所述之装置,其中,中间位晋电极有一角度,偏向于金属片移动径路,由中央区域朝向外端翻卷,而相邻之外侧位置各电极皆向内偏向其移动径路。9.根据上述请求专利部份第8.项所述之装置,其特点为各电极朝移动径路之偏向角度为1至3。 |
