| 发明名称 |
Method for applying a liquid and apparatus for treating a substrate |
| 摘要 |
본 발명은 액 도포 방법 및 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 상에 처리액을 도포하는 방법은 기판을 회전시키면서 기판의 중심부에 상기 처리액을 공급하는 액 공급 단계와 상기 처리액의 공급이 완료되면 상기 기판의 중심부에 기체를 공급하는 건조 단계를 포함하는 액 도포 방법을 포함한다. |
| 申请公布号 |
KR20160134926(A) |
申请公布日期 |
2016.11.24 |
| 申请号 |
KR20150066798 |
申请日期 |
2015.05.13 |
| 申请人 |
SEMES CO., LTD. |
发明人 |
PARK, MIN JUNG;JUNG, YOUNG HUN;AHN, EUN SEAM;LEE, KI SEUNG |
| 分类号 |
H01L21/02;H01L21/027;H01L21/67 |
主分类号 |
H01L21/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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