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发明名称 HEAT TREATING METHOD FOR SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号 JPS6346720(A) 申请公布日期 1988.02.27
申请号 JP19860190651 申请日期 1986.08.15
申请人 OKI ELECTRIC IND CO LTD 发明人 TSUBONE HITOSHI
分类号 H01L21/22 主分类号 H01L21/22
代理机构 代理人
主权项
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