| 主权项 |
1.一种全氟聚醚类,以下式表示其中Rf和Rf'为一CF2COF或一CF3末端基,至少其一为一CF2COF,或Rf,Rf'为一CF2COOR或一CF2Br;m,n和P为0以外之整数,m/n比在0.5至2范图,氧氟烷撑单元系沿链随机分布;比自3至更高値,甚至高达40;或以下式表示:其中,X=F或CF3,而m,n和p为0以外之整数,R'f和Rf表示如上特点之末端基,m/n比在5至40范围,而m/p比在2至50范围者。2.如申请专利范围第1项之全氟聚醚类,其中,式(I)之平均分子量在500至15,000范围内者。3.如申请专利范围第1项之全氟聚醚类,其中,式(Ⅱ)之平均分子量在500至8,000范围内者。4.如申请专利范围第1项之全氟聚醚类,其中,沿链的Rf,R'f和环氧基中至少其一,利用紧缩合或聚加成反应,转化成适于得聚合物,或做为交联剂用之不同官能基者。5.如申请专利范围第4项之全氟聚醚类,其中,官能基系选自:-CONHR(R=H或C1-C12烷基或环烷基)-CN-CHR'OH(R'=H或-CF3)-CH2NH2-CF2OCF=CF2或-CF2CF2-O-CF2者。6.一种如申请专利范围第1项之全氟醚类的制法,其中R'fRf等于一COF或CF3,此法包括,将至少一全氟化烯烃和至少一共轭全氟二烯之液相混合物,在紫外线光存在下,于一80℃至+50℃温度范围,以分子氧进行光化学氧化,随后利用波长在284至334nm范围之紫外线光,在0℃至+160℃处理,将光氧化生成物内存在之过氧基分解者。7.一种如申请专利范围第1项之全氟聚醚类的制法,其中Rf'和Rf等于一CF2Br,此法包括:将至少一全氟化烯烃和至少一共轭全氟二烯之液相混合物,在紫外线光存在下,于一80℃至+50℃温度范围,以分子氧进行光化学氧化,随后利用波长248至3344nm范围之紫外线光,在溴存在内处理,将光氧化生成物内存在之过氧基分解者。8.一种如申请专利范围第1项之全氟聚醚类的制法,其中R'fRf等于一CF2COOR,此法包括:将至少一全氟化烯烃和至少一共轭全氟二烯之液相混合物,在紫外线光存在下,于一80℃至+50℃温度范围,以分子氧进行光化学氧化,随后利用HI在烷醇ROH(其中R=C1-C6烷基)内化学还原,而将光氧化生成物内存在之过氧基分解者。 |
