| 主权项 |
1.一种实质非水性液态清洁产品,含一种非水性有机溶剂,分散于溶剂中的固体物质粒子与含一种或多种悬浮剂其量足够实质使该粒子不絮凝之构架剂,附带条件为当溶剂含非离子型界面活化剂而粒子含清洁性组份时,则(A)组合物含低于有效架构量之无机载剂物质;及(B)构架剂含至少非由下列中选出之一种物质:(a)一种有酸性一POH基的有机磷化合物;(b)一较高脂属羧酸之铝盐;(c)一种阳离子型铵盐界面活化剂单独或与一羧端的非离子型界面活化剂一起或错合,其酸化的非离子型物亦可比阳离子型物或错合物过量;(d) 或取代的 ,尿烷或胍;(e)一聚醚羧酸或一至少合约6个脂属碳原子之脂属直链二元羧酸,或一脂属单环二元羧酸其中一羧基直接组合于环上碳原子而另一则经一至少约3个碳原子的烷基或烯基链连接于单环上,或一项二元羧酸之脂肪酸烷醇胺二酯;(f)任何酸性聚合物材料其中实质全部酸取代基为羧基或任何此类物质其中实质全部羧基经脂肪酸二烷醇胺部份脂化者;及(g)一种多价螯合剂乃一醋酸或膦酸衍微生物之钠盐,或系一线性长链缩合的聚磷酸或其硷金属或铵盐。2.根据申请专利范围第1项之清洁产品,其中构架剂含一有金属或有机阳离子及有机或无机阴离子之盐。3.根据申请专利范围第2项之清洁产品,其中阳离子系过渡金属离子。4.根据申请专利范围第2项之清洁产品,其中阴离子系有机的5.根据申请专利范围第4项之清洁产品,其中有机阴离子系脂肪酸之烃余基。6.根据申请专利范围第5项之清洁产品,其中烃余基有8至20个碳原子。7.根据申请专利范围第2项之清洁产品,其中盐系实质无水的硷金属铝矽酸盐。8.根据申请专利范围第1项之清洁产品,其中构架剂含布朗司德酸或路易氏酸。9.根据申请专利范围第8项之清洁产品,其中构架剂含布朗司德酸。10.根据申请专利范围第8项之清洁产品,其中构架剂含一种或多种酸,选自(a)无机矿酸;及(b)烷基、烯基、芳基、芳烷基及芳烯基磺酸或羧酸及其卤化衍生物。11.一种实质非水性液态清洁产品实质不含无机载体物质(,但含非水性有机溶剂,分散在溶剂内之固体物质粒子与一种或多种自下列中选出之构架剂:(a)无机矿酸;及(b)烷基、烯基、芳基、芳烷基及芳烯基磺酸或单羧酸及其卤化衍生物。12.根据申请专利范围第10项之清洁产品,其中无机矿酸系选自盐酸、碳酸、亚硫酸、硫酸与磷酸。13.根据申请专利范围第10项之清洁产品,其中构架剂包括其烷部份含1至10个碳原子之烷醯酸与其卤化衍生物。14.根据申请专利范围第1或11项之清洁产品,实质上不沈降。15.一种实质非水性不沈降液态清洁产品,含非水性有机溶剂,分散在溶剂内之固体物质粒子与一构架剂。16.根据申请专利范围第15项之清洁产品,其中构架剂含两性离子型界面活化剂。17.根据申请专利范围第16项之清洁产品,其中两性离子型界面活化剂为卵磷脂。18.一种实质非水性液态清洁产品,含非水性有机溶剂,分散在溶剂内之固体物质粒子与一种构架剂其中含非下列之一种阴离子型界面活化剂:(i)一种酸端的非离子型界面活化剂当过量时带一阳离子型季铵盐界面活化剂或者过量时带该阳离子型与该酸化的非离子型之错合物;或(ii)一多醚羧酸,或一至少含约6个脂属碳原子的脂属直链二元羧酸,或一脂属单环二羧酸其中一个羧基直接联结环碳原子而另一个则经一至少含约3个碳原子的烷链或烯链连接单环,或一项二元羧酸之脂肪酸烷醇胺二元酯。19.根据申请专利范围第18项之情洁产品,其中阴离子型界面活化剂含一式(Ⅰ)化合物:R-L-A-Y(Ⅰ)式内R为一台含至24个碳原子的直链或支链烃基,饱和或不饱和;L可不存在或代表-O-,-S-,-Ph-,或-Ph-O-(其Ph代表次苯基),或--CON(R1)-,-CON(R1)R2-或-COR2-式之基,其中R1代表一直链或支链C1-4烷基,R2代表含1至5碳原子之亚烷键并随意经一羟基取代;A可不存在或代表自1至12独立选择的烯氧基;及Y代表-SO3H或-CH2SO3或-CH(R3)COR4式之基其中R3代表-OSO3H或-SO3H,R4独立代表-NH2或-OR5式之基,其R5代表氢或一直链或支链C1-4烷基。20.根据申请专利范围第18项之清洁产品,其中阴离子型界面活化剂系界面活化剂阴离子带一硷金属阳离子之盐。21.根据申请专利范围第18项之清洁产品,其中阴离子型界面活化剂系自由酸式。22.根据申请专利范围第19项之清洁产品,其中式(Ⅰ)内L不存在或者代表-O-,Ph-或-Ph-O;A不存在或代表3至9个乙氧基即-(CH2)2O-或丙氧基-(CH2)3O-等或混合的乙氧/丙氧基;而Y代表-SO3H或-CH2SO3H。23.根据申请专利范围第18项之清洁产品,其中构架剂含一烷基或烷基苯之硫酸酯或磺酸酯。24.根据申请专利范围第14项之清洁产品,其中构架剂含一烷基苯磺酸。25.根据申请专利范围第14项之清洁产品,其中构架剂含十二烷基苯磺酸。26.根据申请专利范围第18项之淆洁产品,其中构架剂含一项二烷基磺化的或烷 基多乙氧化的硫酸酯或磺酸酯。27.根据申请专利范围第18项之清洁产品,其中构架剂含一项二烷基磺化琥珀酸或其盐。28.根据申请专利范围第27项之清洁产品,其中构架剂含二烷基磺化琥珀酸硷金属盐。29.根据申请专利范围第27项之清洁产品,其中构架剂含二烷基磺化琥珀酸铵。30.根据申请专利范围第1.11.15或18项之清洁产品,其中溶剂含非离子型界面活化剂。31.根据申请专利范围第30项之清洁产品,其中非离子型界面活化剂系一多烷氧化的脂肪醇。32.根据申请专利范围第31项之清洁产品,其中脂肪醇经多乙氧化。33.根据申请专利范围第31项之清洁产品,其中脂肪醇经乙氧基与丙氧基二者多烷氧化。34.根据申请专利范围第30项之清洁产品,其中溶剂含第32项所述与第33项所述非离子型之掺混物。35.根据申请专利范围第1.11.15或18项之清洁产品,其中溶剂含非界面活化剂物质。36.根据申请专利范围第35项之清洁产品,其中非界面活化剂物质系一种物质其中分子含一亲脂部份连接于有一或多个未共享电子对之疏水部份。37.根据申请专利范围第36项之清洁产品,其中非界面活化剂物质含醚;多醚;烷胺,脂肪胺,或二-或三-烷基-及(或)脂肪基-N-取代的胺;烷基-或脂肪基醯胺或其一-或二-N-烷基取代的衍生物;烷基或脂肪基羧酸酯;酮;醛或甘油三酸酯。38.根据申请专利范围第1.11.15或18项之清洁产品,其中固体含一种或多种自清洁性组份、洁白剂及洁白系统中选出之主要组份。39.根据申请专利范围第38项之清洁产品,其中主要组份含一洁白剂乃过氧酸。40.根据申请专利范围第39项之清洁产品,其中过氧酸为1,12-二过氧十二烷二酸。41.根据申请专利范围第38项之清洁产品,其中主要组份含一漂白系统,乃一有机过盐与其活化剂一起。42.根据申请专利范围第41项之清洁产品,其中过盐为一水合过硼酸钠而活化剂为四乙醯基乙二胺。43.根据申请专利范围第38项之清洁产品,其中主要组份含一清洁性组份乃一硷金属三多磷酸盐。44.根据申请专利范围第38项之清洁产品,含清洁性组份乃硷金属矽酸盐。45.根据申请专利范围第44项之清洁产品,其中硷金属铝矽酸盐系一部份水合的沸石。46.根据申请专利范围第38项之清洁产品,其中主要组份含一清洁性组份乃硷金属碳酸盐连同其一晶种物质。47.根据申请专利范围第1.11.15或18项之清洁产品,其中固体含磨料粒子。48.根掳申请专利范围第37项之清洁产品,其中磨料粒子含方解石。49.根据申请专利范围第1.11.15或18项之清洁产品,含一种或多种次要组物,选自织物调理剂、酵素、香料、杀微茵剂、着色剂、萤光剂、抗再淀积剂、腐蚀抑制剂、 隐定剂及镇泡剂。50.根据申请专利范围第49项之清洁产品,其中次要组份含一织物调理剂,乃一织物软化黏土。51.根据申请专利范围第1.11.15或18项之清洁产品,实质上不含无机载剂物质。52.根据申请专利范围第1.11.15或18项之清洁产品在常温贮藏一周后显示相分离少于1%。53.一种清洁产品具有根据第1.11.15或18项之产品沈降层之成份,于常温贮藏1周后显示1%或以上之相分离。54.根据申请专利范围第53项之清洁产品,其中组合物具有一产物沈降层之成份,曾经贮藏足够长久以证明相分离实质不同增加。55.一种分配容器至少一部份填充根据第1、11.15或18项之淆洁产品,该容器除有一自0.5至8mm孔径之狭开口槽外系密闭。56.一种制备根据第28项清洁产品之方法、含混合组份构成组合物经加热并任其冷至常温俾发生反絮凝作用。57.一种清理一种表面之方法含使该表面接触根据第1.11.15或18项之清洁产品。58.一种清洗织物或物件之方法包含使该织物或物件接触根据第1.11.15或18项之清洁产品的水溶液及(或)分散液。 |
