摘要 |
<p>Die Erfindung bezieht sich auf diskrete Dünnschicht-Bauelemente, in Dünnschichttechnik hergestellte Bauelemente in Hybridschaltkreisen, Halbleiterbauelemente, integrierte Schaltkreise und Solarzellen. Erfindungsgemäß besteht die Schicht aus einem weichlötbaren Werkstoff mit Zusatz von 4 bis 18 At.-% Chrom, Zirkonium, Titan oder Aluminium. Die Schicht enthält am Substrat maximal 20 At.-% Sauerstoff, wobei die Sauerstoffkonzentration mit zunehmender Schichtdicke monoton abnimmt. Beim Erreichen von ca. 1/3 der Schichtdicke beträgt die Sauerstoffkonzentration Null.</p> |
申请人 |
VEB ELEKTRONISCHE BAUELEMENTE TELTOW |
发明人 |
HINUEBER, WILFRIED, DR.-ING.;SCHUMANN, JOACHIM, DR.;HEINRICH, ARMIN, DR.;MULLER, BERND, DIPL.-ING.;JARCAK, WOLFGANG, DR.;BIERBRAUER, LUTZ, DIPL.-ING.;HEISIG, ULLRICH, DR.;PFANNKUCHEN, ROLF, DIPL.-ING.;BAETHER, KARL-HEINZ, DR. |