光罩式线网等之防尘盖

摘要

本发明系有关用于制造半导体积体电路之光罩或网其防尘护膜，其乃一种透明的薄覆膜，安置在光罩或线网受质表面稍许距离之上，以保护受质表面以及防尘之用。此透明薄膜系由下式之聚乙烯基缩醛所构成：□ (Ⅰ)此处的R是氢原子，-CH3，-C2H5或-CnHmF2n-m+1，n是 1 至 8 的整数，m是 0 至 2 n的整数，x是 5 至 40 的数值，y是 0 至 10 的数值，z 1是0至__的数值，z 2 是__至__的数值，其中的醋酸乙烯酯含量至多为10莫耳百分率，缩醛含量至少为60重量百分比。

主权项

1.制造半导体积体电路时所有的光罩或线网其防尘护膜,其乃一种透明的薄覆膜,安置在光罩或线网受质表面积许距离之上,以保护受质表面及防尘之用;此透明薄膜系由下式之聚乙烯基缩醛所构成;此处R是氢原子,-CH3,-C2H5或-CHnHmF2n-m+1,为1至8的整数,m为O至2n的整数,x为5至40的数値,y为0至10的数値,z1为0为90/2之数値,22为3/2至95/2之数値,其中的醋酸乙烯酯含量至多为10莫耳百分率,缩醛含量至少为60莫耳百分率。2﹒如申请专利范围第1.项之防尘护膜,其中的R定是-CH3或-C2H5,且Z1为0。3.如申请专利范围第1.项之防尘护膜,其中的Z1与Z2之比例至多为20:1。4﹒如申请专利范围第1.项之防尘护膜,其透明薄覆膜之厚度为0.5至10微米之间。5﹒如申请专利范围第1.项之防尘护膜,其武I的聚乙烯基缩醛之平均分子量在10,000至2000,000范围内。