Photoresist.

摘要

Beschrieben werden photohärtbare und lösungsmittelentwickelbare Zusammensetzungen auf Basis von photopolymerisierbaren (Meth)acrylaten, einem Photoinitiator für (Meth)acrylate, einem organischen polymeren Bindemittel enthaltend freie Carboxylgruppen, das eine Säurezahl von mindestens 60 aufweist, einem blockierten Polyisocyanat Vernetzer, der eine Aufspalttemperatur von mindestens 100°C besitzt, und einem inerten Lösungsmittel in einer solchen Menge, dass die photohärtbare Zusammensetzung giessfähig ist.