| 主权项 |
1﹒一种可见光敏电镀被膜用之组成物,其中包括:(A)具有可藉光照射而交联或聚合之光敏基及离子基之可光固化树脂,该光敏基系自(甲基)丙烯醯基,桂皮醯基及丙烯基者;(8)可经由吸400-7O0nm之可见光而被激发且具有可与树脂(A)交互作用之性质之敏化剂,系选自硫气杂葱,氨杂葱酮,硷性苯乙烯基,3一取代香豆染料者;及(C)选自有机过氧化物、铁一芳烯复合物及二环戊二烯钛化合物,且于水中之溶解度为2g/100m1水或以下之水不溶性聚合启发剂。2﹒如申请专利范围第1项之电镀被膜用之组成物,其中可光固化树脂(A)中之光敏基含量系于0﹒2至﹒5﹒0莫耳/kg之范围。3﹒如申请专利范围第1项之电镀被膜用之组成物,其中可光固化树脂(A)具有玻璃转变温度为O℃或以上及数平均分子量为300至100,000。4﹒如申请专利范围第1项之电镀被膜用之组成物,其中可光固化树脂(A)为阴离子树脂,其中含缩水甘油基之不饱和化合物与具有高酸价之丙烯酸树脂联结。5﹒如申请专利范围第1项之电镀被膜用之组成物,系经由高酸价之含羟基内烯酸树脂与桂皮醯基卤起反应而得。G﹒如申请专利范围第1项之电镀被膜用之组成物,其中丙烯基缩水甘油基醚与具有高酸价之丙烯酸树脂联结。7﹒如申请专利范围第1项之电镀被膜用之组成物,其中之可光固化树脂(A)为具有三级胺基或盐其数量为0﹒2至5莫耳/kg之阳离子树脂。8﹒如申请专利范围第1项之电镀被膜用之组成物,其中敏化剂(B)之用且系于0﹒1至10重量份/00重量份可光固化树脂(A)之固体含量之范围。9﹒如申请专利范围第1项之电镀被膜用之组成物,其中水不溶性聚合启发剂为铁一芳烯复合物或二环戊二烯钛化合物。10﹒如申请专利范围第1项之电镀被膜用之组成物,其中水不溶性聚合启发剂(C)之用量系于0﹒1至25重量份/100重量份之可光固化树脂(A)之固体含量之范围。11﹒如申请专利范围第1项之可见光敏电镀被膜用之组成物,其中又含有(D)至少一种如下通式(1)至(3)所代表之合氮化合物:式中X代表氢原子或经基,R1,R2,及R3各自独立代表氢子,氯原子或具1至6碳原子之烷基;,式中R4及R5各自独立代表氢原子,或具有1至6碳原子之烷基;式中R6,R7及R8各自独立代表氢原子,羟基或具有1至12碳原子之烷基。12﹒如申请专利范围第11项之电镀被膜用之组成物,其中含气化合物为通式(1)所代表之苯骈三唑。13﹒如申请专利范围第12项之宦镀被膜用之组成物,其中含氮化合物(D)系选自如下式苯骈三唑:14﹒如申请专利范围第11项之电镀被膜用之组成物,其中含氮化合物(D)之用量系于0﹒01至20重量份/100重量份可光固化树脂(A)之固体含量之范围。15﹒一种成像方法,该方法包括:(i)经由使用可见光敏电镀被膜用之组成物,藉定镀而对导体表面施加一层被膜,该组成物包括下列成分作为不可或缺之成分:(A)具有可藉光照射而交联或聚合之光敏基及离子基之可光固化树脂,该光敏基系选自(甲基)丙烯醯基,桂皮醯基及丙烯基者;(B)可经由吸收400-70Onm之可见光而被激发且具有可与树脂(A)交互作用之性质之敏化剂,系选自硫氧杂葱,氧杂葱,酮,硷性苯乙烯基,3一取代香豆染料者;及(C)选自有机过氧化物、铁一芳烯复合物及二环戊二烯钛化合物,且于水中之溶解度为2g-100ml水或以下之水不溶性聚合启发剂。(ii)经由以可见光剖份照射薄膜来曝光电镀所得薄膜,及然后(iii)使得所得薄膜与显像液接触来去除未曝光区域。16﹒如申请专利范围第15项之成像方法,其中可见光敏电镀被膜用之经成物又含有(D)至少一种如下通式(1)至(3)所代表之合氮化合物;式中X代表氢原子或烃基,R1,R22及3各自独立代表氢原子,氯原子或具有1至6碳原子之烷基;式中R4及R5各自独立代表氢原子,或具有1至6个碳原子之烷基;式中R6,R7及R8各自独立代表氢原子,羟基或具有1至12碳原子之烷基。 |
