| 摘要 |
수소 포함 배기가스 처리장치가 개시된다. 본 발명에 따른 수소 포함 배기가스 처리장치(200)는, 반도체 표면 개질 공정에서 발생하는 수소 포함 배기가스(HG)가 유입되는 수소 포함 배기가스 유입관(110), 및 산소 포함 공기(A)가 유입되는 산소 포함 공기 유입관(231)이 적어도 일측에 연결되고, 수소 포함 배기가스(HG)와 촉매 반응을 일으키는 촉매를 포함하는 복수개의 촉매 담체부(216, 256)를 포함하는 처리부(210, 250)를 포함하는 것을 특징으로 한다. |
