发明名称 DEVICE FOR PROCESSING VOLATILE GAS
摘要 본 발명은, 유입부와 유출부를 갖는 하우징; 상기 하우징 내에 설치되고, 상기 유입부로부터 인입되는 미처리 가스의 휘발성 유해물질을 흡착시킬수 있게 형성된 필터유닛; 상기 필터유닛의 상기 유출부 쪽 면을 따라 이동할 수 있게 형성되고, 상기 필터유닛에 가열 기체를 분사할 수 있게 형성된 분사유닛; 상기 필터유닛의 유입부 쪽 면을 따라 상기 분사유닛에 대응하여 이동할 수 있게 형성되고, 상기 가열 기체를 폐쇄적으로 흡입할 수 있게 형성된 흡입유닛; 및 상기 분사유닛을 따라 이동할 수 있게 형성되며, 상기 필터유닛의 영역 중 상기 분사유닛에 의해 가열된 영역을 통과한 처리 가스를 상기 분사유닛으로 공급할 수 있게 형성된 순환유닛;을 포함하는, 휘발성 가스 처리장치를 제공하는 것이다.
申请公布号 KR20160128696(A) 申请公布日期 2016.11.08
申请号 KR20150060444 申请日期 2015.04.29
申请人 SETS 发明人 KIM, GI CHEOL;JEONG, BYEONG HO
分类号 B01D46/00;B01D46/10;B01D46/48 主分类号 B01D46/00
代理机构 代理人
主权项
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