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发明名称
21–去氧培尼皮质醇17–酯之制法
摘要
揭示式(Ⅳ)之21-去氧培尼皮质醇17-酯之制法。□ (Ⅳ)此法包括令培尼皮醇17α,21-环原酸酯与酸在40至60%低醇溶液中反应,以生产培尼皮质醇17-酯,磺醯化此培尼皮质醇17-酯为培尼皮质醇17-酯21-磺酸盐,并令此磺醯盐与硷金属碘于丁酮在低脂肪酸存在下反应,生产式(Ⅳ)之化合物。本制法确保高纯度21-去氧培尼皮质醇17-酯之经济性工业性之生产,此化合物为优良局部抗炎药,且由简单步骤即获高产量。
申请公布号
TW169355
申请公布日期
1991.09.21
申请号
TW079108648
申请日期
1990.10.13
申请人
爱诗爱诗制药股份有限公司
发明人
小川正树;佐藤进;仓石忠幸;栗山忠俊;泰道直方
分类号
C07J5/00
主分类号
C07J5/00
代理机构
代理人
何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项
1.一种如式(Ⅳ)21-去氧培尼皮质醇17-酯之制法,式中R1为C1-6烷基或苯C1-6烷基,其包括令式(I)之培尼皮质醇17,21-环原酸酯,式中R1同式(Ⅳ)及R2为C1-6烷基,与酸在40-60%c1-6醇溶液反应,以生产式(Ⅱ)之培尼皮质醇17-酯,武中R1同如式(Ⅳ),磺醯化式(Ⅱ)之培尼皮质醇17-为式(Ⅲ)之培尼皮质醇17-酯21-磺酸盐,式中R1同如式(Ⅳ)及R3为C1-6烷基或来基,及令式(Ⅲ)之培尼皮质醇17-酯21-磺酸盐与硷金属碘于丁酮在C1-6脂肪酸存在
地址
日本
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