| 主权项 |
1.一种微泵,具有:一第一晶片(22)及至少一第二晶片(2),第二晶片黏合于第一晶片,一起界定一泵室(34);至少一上游阀(36),选择连接泵室至微泵之至少一入口;及至少一下游阀(48),选择连接泵室至微泵之至少一出口,该微泵并含有控制装置(26-32),用以使泵室之容积周期性变化;该微泵之特征为:至少一上游阀(36) 具有一膜片(40)界定一上游室(38)及一下游室(62),该膜片由一孔(42)刺穿,用以通过流体自一室至另一室:及一密封环(44)包围该孔,经设计由弹性拘束而通常抵压于一晶片(2,24)上所设之面对该环之一阀座上,让孔(42)之设置位置在于,在该微泵之起动期间中,进入下游室之流体先到达下游室之周边壁之一特定及独特部份(60,70),然后到达此周边壁之任何其他部份。2.如申请专利范围第1项所述之微泵,其特征为该下游室包含一出口通道,由一孔(50)枋成。3.如申请专利范围第2项所述之微泵,其特征为该出口孔(50)置于接近下游室之壁,大致离该部份(60)最远之处。4.如申请专利范围第2或3项所述之微泵,其特征为该出口孔(50)自下游室进入一空间(52,34)中,该孔(50)之设置位置在于,在微泵之起动期间中,进入该空间中之流体先到达该空间之周边壁之一特定及独特部份,然后到达该周边壁之任何其他部份。5.如申请专利范围第1项所述之微泵,其特征为该下游室(62)构成泵室(34)。6.如申请专利范围第2项所述之微泵,其特征为该下游室(62)及泵室(34)在不同之平面中,并经由该出口孔(50)相通。7.如申请专利范围第1项所述之微泵,其特征为该微泵含有单一空间,让空间构成至少一上游阀(36)之下游室,泵室,及至少一下游阀 (48)之一室,出口通道由该下游阀界定。8.如申请专利范围第1项所述之微泵,其特征为该下游室包含一出口通道,由一通道(68)构成,大致位于离设部份(72)最远之一区域中。9.如申请专利范围第1项所述之微泵,其特征为与泵室(34)直接相通之每一下游阀(48) 之上游室之高度小于4Om。10.如申请专利范围第1项所述之微泵,其特征为上游或下游之至少另一阀之上游室(38,49) 之高度小于4Om。11.如申请专利范围第1项所述之微泵,其特征为该孔(42)及下游室之壁间之距离随沿此壁上移离该部份(60,72)之距离而逐渐增加。12.如申请专利范围第1项所述之微泵,其特征为晶片(2,22,24)之表面预定接触之流体为亲水性。13.如申请专利范围第12项所述之微泵,其特征为第一晶片(22)为矽,其表面由氧化而使其成亲水性,及其他晶片(2,24)为玻璃。14.如申请专利范围第2项所述之微泵,其中,在该微泵起动后,流体流在进入口阀(36)之下游室(62)中成层流,流体流之速度在下游室之一区域中较高及在下游室之另一区域(43)中较低,其特征为该微泵包含一入口通道(4),以使流体流进入口阀之上游室(38) 中,该入口通道大致面对该另一区(43)。15.如申请专利范围第1项所述之微泵,其特征为该密封环(44)与该膜片(40)成一体。图示简单说明:图1为本发明之微泵之概要断面图,图2为图1所示之微泵之中间晶片之顶视图,图3为本发明之另一微泵之概要断面图,图4为图3所示微泵之中间晶片之顶视图,图5为图4所示晶片之实施例之一项修改,图6为图3所示微泵之一实施例之概要断面图,图7为图6所示微泵之中间晶片之顶视图,图8为图6所示微泵之一部份之放大断面概要图,图9为本发明之另一微泵之概要断面图,图10为图9所示微泵之中间晶片之顶视图,图11为图10所示晶片之一实施例,及图12a至12d显示流体在本发明之微泵之一阀之下游室中传播之情形。 |
