发明名称 具有射束成形用衍射光栅之雷射导管
摘要 一种雷射导管,包含长形管状导管本体,延伸贯穿导管本体之一或以上光纤,以及安装在导管末端的导管窗。光纤引导雷射能通过导管窗,以供去除生物材料。在导管窗基端表面形成衍射光栅,与来自光纤的雷射能对准。雷射能被衍射光栅所改变,以提供所需空间分配形态。衍射光栅最好具有发散射束,适于在阻塞穿孔,孔径和导管直径大约相同。衍射光栅可在导管末端形成具有椭圆形或其他非圆形断面的射束形态。在另一具体例中,使用非圆形断面的光纤以塑造雷射导管所发射的雷射辐射。
申请公布号 TW175571 申请公布日期 1991.12.21
申请号 TW079110693 申请日期 1991.01.28
申请人 西奥巴达公司 发明人 爱德华辛诺夫斯基;葛蓝贝克
分类号 H01S3/34 主分类号 H01S3/34
代理机构 代理人 陈嗣庆 台北巿民权东路三段一四四号一五二六室
主权项 1.一种以辐射能去除生物材料所用之导管,包括:长形导管机构,具有基端和末端;光纤机构,自该基端贯穿该导管机构延伸至该末端,该光纤机构具有末尖;以及传输衍射光栅机构,安装于该导管机构末端或附近,使自该导管机构基端引导通过该光纤机构的辐射能,通过该传输衍射光栅机构,并利用该传输衍射光栅机构改变成所需空间分配形态,以照射生物材料者。2.如申请专利范围第1项之导管,其中,该传输衍射光栅机构包括窗,上面具有传输衍射光栅者。3.如申请专利范围第2项之导管,其中,该窗具有末端表面和基端表面,该传输衍射光栅系形成于该基端表面者。4.如申请专利范围第3项之导管,其中,该光纤机构的末尖与该窗之基端表面利用空气间隙隔开者。5.如申请专利范围第4项之导管,其中,该空气间隙的轴向尺寸约25微米或以上者。6.如申请专利范围第3项之导管,其中,该辐射能是在通过该传输衍射光栅机构后,在垂直于该导管机构轴线的至少一次元膨胀者。7.如申请专利范围第6项之导管,其中,该窗的厚度经选择,在该传输衍射光栅和该末端表面之间,具有该辐射能之所需膨胀者。8.如申请专利范围第3项之导管,其中,该传输衍射光栅包括在该基端表面上的复数平行凹沟者。9.如申请专利范围第8项之导管,其中,该凹沟间隔系不均匀者。10.如申请专利范围第8项之导管,其中,该凹沟具有拟似随机间隔者。11.如申请专利范围第1项之导管,其中,该光纤机构包括单一光纤者。12.如申请专利范围第1项之导管,其中,该光纤机构包括复数光纤者。13.如申请专利范围第12项之导管,其中,该传输衍射光栅机构包括窗,具有末端表面和基端表面,该传输衍射光栅机构包括在该基端表面上之传输衍射光栅者。14.如申请专利范围第13项之导管,其中,该复数光纤系沿周安装于该导管末端,且其中,该窗包含位于中央之通孔,与该导管机构内控相通者。15.如申请专利范围第14项之导管,其中,该传输衍射光栅包括在该窗上的复数段,逐一与各该光纤对准者。16.如申请专利范围第15项之导管,其中,该传输衍射光栅的各该段包括在该基端表面上之复数平行凹沟者。17.如申请专利范围第16项之导管,其中,该凹沟间隔系不均匀者。18.如申请专利范围第16项之导管,其中,该凹沟具有拟似随机间隔者。19.如申请专利范围第15项之导管,其中,该传输衍射光栅的各该段包括全息衍射光栅者。20.如申请专利范围第15项之导管,其中,该传输衍射光栅的各该段包括在该基端表面上的第一组平行凹沟和第二组平行凹沟,该第一组平行凹沟系垂直于该第二组平行凹沟者。21.如申请专利范围第14项之导管,其中,该传输衍射光栅包括在该基端表面上之复数径向凹沟者。22.如申请专利范围第14项之导管,又包含在该窗末端表面上朝基端的反射层,在一般基端方向反射该辐射能者。23.如申请专利范围第1项之导管,其中,该传输衍射光栅机构包括窗,具有末端表面和基端表面,该基端表面形成凹部,该凹部具有端壁,上面形成传输衍射光栅者。24.如申请专利范围第23项之导管,包含机构,利用该凹部的轴向深度,将该光纤的末尖与该传输衍射光栅相隔开者。25.如申请专利范围第2项之导管,其中,该窗包括氧化矽者。26.如申请专利范围第3项之导管,其中,该传输衍射光栅是利用折射率与该窗不同的材料,与该光纤机构的末尖隔开者。27.如申请专利范围第1项之导管,其中,该光纤机构包含末端表面,辐射能被引导通过,且其中,该传输衍射光栅系形成于该光纤机构之末端表面上者。28.一种以雷射能去除生物材料所用之导管,包括:长形可挠性导管体,具有基端和末端,并具有腔以接受导线;复数光纤,自该基端贯穿该导管体延伸至该末端,各该光纤具有末尖;以及窗,安装在该导管体的末端或附近,以传输所带雷射能通过该光纤,该窗上面形成传输衍射光栅,该光纤末尖系安装成与该传输衍射光栅对准,使自该导管的基端引导通过该光纤的雷射能,通过该传输衍射光栅,并利用该传输衍射光栅改变成所需空间分配形态,以照射生物材料者。29.如申请专利范围第28项之导管,其中,该窗具有末端表面和基端表面,该传输衍射光栅系形成于该基端表面者。30.如申请专利范围第29项之导管,其中,该光纤机构的末尖与该窗之基端表面利用空气间隙隔开者。31.如申请专利范围第29项之导管,其中,该窗的厚度经选择,在该传输衍射光栅和该末端表面之间,具有该辐射能之所需膨胀者。32.如申请专利范围第29项之导管,其中,该传输衍射光栅包括在该窗上的复数段,逐一与各该光纤对准者。33.如申请专利范围第32项之导管,其中,该传输衍射光栅的各该段包括在该基端表面上之复数平行凹沟者。34.如申请专利范围第33项之导管,其中,该凹沟间隔系不均匀者。35.如申请专利范围第34项之导管,其中,该凹沟具有拟似随机间隔者。36.如申请专利范围第28项之导管,其中,该窗具有末端表面和基端表面,该基端表面形成至少一凹部,该至少一凹部具有端壁,上面形成该传输衍射光栅者。37.如申请专利范围第36项之导管,包含机构,利用该至少一凹部的轴向深度,将该光纤的末尖与该传输衍射光栅相隔开者。38.如申请专利范围第33项之导管,其中,该凹沟间隔系均匀者。39.一种以辐射能自体腔去除生物材料所用之导管,包括:长形导管体,具有基端和末端;至少一光纤,自该基端贯穿该导管体延伸至该末端;以及成形机构,将引迈贯穿该至少一光纤的辐射能,在该导管体的垂直平面改变成非圆形分配形态者。40.如申请专利范围第39项之导管,其中,该成形机构包括传输衍射光栅,安装在该导管体末端或附近,使自该光纤发射的辐射能,被引导通过该传衍射光栅者。41.如申请专利范围第39项之导管,其中,该成形机构包括该光纤接近该导管体末端的一段具有非圆形断面者。42.如申请专利范围第39项之导管,其中,该成形机构在该导管体的垂直平面,具备一般椭圆形分配形态者。43.如申请专利范围第39项之导管,包含复数光纤,沿周位于导管轴线周围,且其中,该成形机构为各该光纤提供沿周方向呈长形之分配形态者。44.一种以辐射能自体腔去除生物材料所用之导管,包括:长形挠曲性导管体,具有基端和未端,以及腔,以接受导线;复数光纤,延伸贯穿该导管体,各该光纤具有未端,该光纤的末端沿周位于该导管体轴线周围:以及成形机构,将引导通过各该光纤的辐射能,在该导管体的垂直平面,改变成非圆形分配形态者。45.如申请专利范围第44项之导管,其中,该成形机构包括传输衍射光栅,位于自各该光纤发射之辐射能途径上者。46.如申请专利范围第34项之导管,其中,该成形机构包括各该光纤接近该导管体末端的一段具有非圆形断面者。47.如申请专利范围第44项之导管,其中,该成形机构提供来自各该光纤的辐射能分配形态,在沿用方向呈长形者。48.如申请专利范围第45项之导管,其中,该传输衍射光栅形成于附设在于该导管体末端之窗上者。49.如申请专利范围第45项之导管,其中,各该光纤包含末端表面,辐射能被引导通过,且其中,该传输衍射光系形成于该光纤的末端表面者。图示简单说明:第1图表示本发明单一米纤雷射导管。第2图为第1图雷射导管末端放大之简化断面图。第3图表示本发明复数光纤线导雷射导管。第4图为第3图雷射导管末端放大之简化断面图。第5图为第3图导管末端另一具体例的断面图。第6A-6C图表示本发明适用的衍射光栅形态。第7图表示使用四个沿周隔开的光纤之环形衍射光栅形态例。第8图是第7图衍射光栅所提供环形导管窗和雷射射束断面的端视示意图。第9图为三个沿周隔开的光纤和一衍射光栅所提供环形导管窗和雷射射束断面的端视示意图。第10图为四个沿周隔开的非圆形光纤所提供环形导管窗和雷射射束断面的端视示意图。第11图为第1图导管末端另一具体例的放大简化断面图。
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