| 主权项 |
1. 一种与相容施片联合使用的热移印受片,受片包括一支承底质其表面上有一聚合型中间层,其较远表面上有一感受染料的中间层以接纳自施片热移转的染料,其中底质含一合成聚合物层于200℃温度及2兆帕司卡压力下有至少4.5%之变形指数,中间层有透射光密度/膜厚(mm计)比自7.5至17.5。2. 根据申请专利范围第1项之受片,其中底质层之变形指数系自10至30%。3. 根据申请专利范围第1与2中任一项之受片,其中底质含一聚合物软化剂。4. 根据申请专利范围第3项之受片,其中软化剂含一烯烃聚合物。5. 根据申请专利范围第4项之受片,其中底质含一分散剂。6. 根据申请专利范围第1,2,4或5项之受片,其中中间层含有效量的孔隙剂包括一不相树脂填料与/或一微粒无机填料。7. 根据申请专利范围第6项之受片,其中填料含硫酸钡。8. 根据申请专利范围第1,2,4,5或7项之受片,其中中间厚度不超过50um。9. 一种供与相容施片联合使用的热移印受片之制法,包括制作一支承底质,其一面上设置一聚合型中间层在其较远面上有一感受染料的接收层以接纳由施片热移转之染料,其中底质含一层合成聚合物层于200℃温度及在2帕司卡压力下有至少 4.5 % 之变形指数,与中间层有透射光密度/膜厚(mm计)比自7.5至17.5。10. 根据申请专利范围第9项之方法,其中底质及中间层 |
