发明名称 铝配线基板之表面处理剂
摘要 一种铝配线基板之表面处理剂,系由含有如下通式:□(式中R为C1-3烷基,或羟基取代之C1-3烷基, R1,R2,R3分别为C1-3烷基)所示季铵氢氧化物0.01-15重量%,以及糖或糖醇0.1-20重量%之水溶液构成者。
申请公布号 TW179708 申请公布日期 1992.03.01
申请号 TW080103791 申请日期 1991.05.16
申请人 三菱瓦斯化学股份有限公司 发明人 近藤俊夫;青山哲男;高桥真由美;福田秀树
分类号 C23F11/00 主分类号 C23F11/00
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种铝配线基板之表面处理剂,系由含有如下通式:(式中R为C1-3烷基,或羟基取代之C1-3烷基,R1,R2,R3分别为C1-2烷基)所示季铵氢氧化物0.01一15重量%,以及糖或糖醇0.1一20重量%之水溶液构成者。2.如申请专利范围第1项之表面处理剂,其中,通式所示季铵氢氧化物系选自包含四甲基氢氧化铵,四乙基氢氧化铵,四丙基氢氧化铵,三甲基乙基氢氧化铵,三甲基(2一羟乙基)氢氧化铵,三乙基(2一羟乙基)氢氧化铵,三丙基(2一羟乙基)氢氧化铵,三甲基(1一羟丙基)氢氧化铵中至少其一者。3.如申请专利范围第1项之表面处理剂,其中,糖或糖醇系选自包含葡萄糖、甘露糖、半乳糖、山梨糖醇、甘露糖
地址 日本