| 主权项 |
1.一种含三级硫醇与二级或一级硫醇、酸性烃馏份之脱硫方法,包括:(a)使酸性烃馏份内所含硫醇与氢在液相中于选择性氢解触媒存在下及氢解反应条件下反应一段足够选择性氢解三级硫醇的时间;及(b)使酸性烃馏份内硫醇与氧化剂于硷性组份及氧化触媒存在下,以及于可有效氧化硫醇成二硫化物的氧化条件下反应;(a)与(b)步骤可以任可顺序进行以产生脱硫的烃馏份。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中氢解触媒含至少一种分散于多孔支座上的金属;多孔支座系选自氧化铝、二氧化矽、碳、氧化铝—矽酸盐、天然与合成黏土、硷土金属氧化物,及其混合物;金属系选自Ⅷ族金属、VIB族金属及其混合物。3.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中氢解条件为25℃至300℃之温度,689至6894KPa之压力,及占总硫醇硫浓度0.1至10莫耳%之氢浓度。4.根据申请专利范围第1项之方法,其中氧化触媒系一分散于一吸附支座上的金属螯合物。5.根据申请专利范围第1项之方法,其中(b)步骤内所用硷性组份系选自氢氧化铵、硷金属氢氧化物及其混合物。6.根据申请专利范围第1项之方法,其中(b)步骤系于一类化合物存在中进行,该 类化合物系选自具化学式[R'R"RyM]+X-之四级铵,鏻、 ,锑,锌及硫化合物;式内R为一含最多20个碳原子的烃基,系选自烷基、环烷基、芳基、烷芳基及芳烷基,R'系含5至20个碳原子的直链烷基;R"为选自芳基、烷芳基及芳烷基之烃基;M系氮、磷、砷、锑、氧或硫,X为选自卤化物、氢氧化物、硝酸盐、硫酸盥、磷酸盐、醋酸盐、柠檬酸盐及酒石酸之阴离子,且当M系氧或硫时y为1,而M为磷、砷、锑或氮时y为2。 |
