Process for depositing a film containing boron and nitrogen.
摘要
<p>Beschrieben wird ein Verfahren zur Abscheidung B und N enthaltender Schichten mit N-substituierten Borazolen, insbesondere nach einem Plasma-CVD-Verfahren.</p>
申请公布号
EP0510567(A2)
申请公布日期
1992.10.28
申请号
EP19920106759
申请日期
1992.04.21
申请人
SOLVAY DEUTSCHLAND GMBH;FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.
