发明名称 硝基胍衍生物之制法
摘要 本发明系关于制备式I1,3-二取代2-硝基胍之新颖方法:□ (Ⅰ)其中R1 系氢,或C1 - 4 烷基,R2 系氢,C1 - 6 烷基,C3 -6 环烷基或-CH2 B;A系未被取代或被芳香基或非芳香基所单-至四-取代,单环或双环杂环基,可含一个或二个取代基包含具1至7个卤原子之C1 - 3卤烷基,环丙基,具1至3个卤原子之环丙基, C2 - 3 烯基,C2 - 3炔基,C2 - 3 卤烯基及具1至4个卤原子之 C2 - 3卤炔基,具1至7个卤原子之C1 - 3卤烷氧基, C1 -3 烷硫基,具1至7个卤原子之C1 - 3卤烷硫基,丙烯氧基,丙炔氧基,丙烯硫基,丙炔硫基,卤丙烯氧基,卤丙烯硫基,氰基及硝基,1至4个取代基包含C1 - 3烷基,C1 - 3烷氧基及卤素;B系苯基,氰苯基,硝苯基,具1至3个卤原子之卤苯基,苯基被C1 - 3烷基,具1至7个卤原子之C1 - 3 卤烷基,C1 - 3 烷氧基或具1至7个卤原子之C1 - 3 卤烷氧基所取代,3-啶基,5-唑基,5-唑基被1个或2个取代基所取代,该取代基包含C1 - 3 烷基,具1至7个卤原子之C1 - 3 卤烷基,环丙基,卤环丙基,C2 - 3 烯基,C2 - 3炔基, C1 - 3 烷氧基,C2 - 3 卤烯基及具1至4个卤原子之 C2 - 3 卤炔基,具1至7个卤原子之C1 - 3 卤烷氧基, C1 - 3 烷硫基,具1至7个卤原子之C1 - 3 卤烷硫基,丙烯氧基,丙炔氧基,丙烯硫基,丙炔硫基,卤丙炔氧基,卤丙烯硫基,卤素,氰基及硝基,或3-啶基被1个或2个取代基所取代,该取袋基包含具1至7个卤原子之C1 - 3 卤烷基,环丙基,卤环丙基,C2 - 3烯基, C2 - 3炔基,C2 - 3 卤烯基及具1至4个卤原子之C2 - 3卤烷炔基,具1至7个卤原子之C1 - 3 卤烷氧基,C1 - 3烷硫基,具1至7 个卤原子之 C1 - 3 卤烷硫基,丙烯氧基,丙炔氧基,丙烯硫基,丙炔硫基,卤丙烯氧基,卤丙烯硫基,氰基及硝基,或被1至4个基包含C1 - 3烷基,C1 - 3 烷氧基及卤素所取代,该方法包含水解式Ⅱ化合物:□(Ⅱ),其中R3系未被取代或被C1 - 10 烷基,C3 - 6 环烷基,苯基或基所取代。式I化合物适宜为制备杀虫剂之中间体。
申请公布号 TW198724 申请公布日期 1993.01.21
申请号 TW080108018 申请日期 1991.10.11
申请人 诺瓦帝士公司 发明人 彼得梅安菲士奇;劳伦斯塞尔;奥德科里斯提安森
分类号 C07D213/89;C07D277/587;C07D521/00 主分类号 C07D213/89
代理机构 代理人 郑自添 台北巿敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种制备式(I)化合物之方法:其中R1系氢,或C1-4烷 基,R2系氢,C1-6烷基,C3-6环烷基或-CH2B;A系杂环基 且其杂环母体结构经由碳原子键接至式(I)化合物 之其余 部分,该杂环基选目:其母体结构系未被取代或视 环系统 之取代可能性而定,带有高至4个取代基,其中有一 个或 二个取代基选自具1至7个卤原子之C1-3卤烷基,环丙 基, 具1至3个卤原子之卤环丙基,C2-3烯基,C2-3炔基,C2-3 卤烯基及具1至4个卤原子之C2-3卤炔基,具1至7个卤 原子 之C1-3卤烷氧基,C1-3烷硫基,具1至7个卤原子之C1-3卤 烷硫基,丙烯氧基,丙炔氧基,丙烯硫基,丙炔硫基, 卤 丙烯氧基,卤丙烯硫基,氰基及硝基,1至4个取代基 选自 C1-3烷基,C1-3烷氧基及卤素;且其中母体结构中之E 系 C1-3烷基,而Y系氢,C1-3烷基或环丙环;B系苯基,氰苯 基,硝苯基,具1至3个卤原子之卤苯基,苯基被C1-3烷 基 ,具1至7个卤原子之C1-3卤烷基,C1-3烷氧基或具1至7 个 卤原子之C1-3卤烷氧基所取代,3- 啶基,5- 唑基,5- 唑基被1个或2个取代基所取代,该取代基包含C1-3烷 基, 具1至7个卤原子之C1-3卤烷基,环丙基,卤环丙基,C2-3 烯基C2-3炔基,C1-3烷氧基,C2-3卤烯基及具1至4个卤原 子之C2-3卤炔基,具1至7个卤原子之C1-3卤烷氧基,C1-3 烷硫基,具1至7个卤原子之C1-3卤烷硫基,丙烯氧基, 丙 炔氧基,丙烯硫基,丙炔硫基,卤丙炔氧基,卤丙烯硫 基 ,卤素,氰基及硝基,或3- 啶基被1个或2个取代基所 取 代,该取代基包含具1至7个卤原子之C1-3卤烷基,环 丙基 ,卤环丙基,C2-3烯基,C2-3炔基,C2-3卤烯基及具1至4 个卤原子之C2-3卤烷炔基,具1至7个卤原子之C1-3卤 烷氧 基,C1-3烷硫基,具1至7个卤原子之C1-3卤烷硫基,丙烯 氧基,丙炔硫基,卤丙烯氧基,卤丙烯硫基,氰基及硝 基 ,或被1至4个基包含C1-3烷基,C1-3烷氧基及卤素所取 代 ,该方法包括于温度0至120℃及正常压力以水,酮,醇 或 醚当作惰性稀释剂或溶剂用酸水解式(Ⅱ)化合物: 其中A ,R1及2如式(I)中定义,R3系未被取代或被取代之C1-10 烷基,C3-6环烷基,苯基或 基。2.如申请专利范围第1 项之方法,其中所用之式(Ⅱ)化合 物系为其中R3系C1-10烷基,C3-6环烷基,C1-10烷基被1 -12个基所取代,该基包含卤素,羟基,C1-4烷氧基,具 1至9个卤原子之C1-4卤烷氧基,二-(C1-4烷基)胺基及C1 - 4烷氧羰基;C3-6环烷基被1-4个C1-5烷基或卤原子所取 代,苯基, 基,或苯基或 基被1-3环取代基取代,该 取代基包含卤素,C1-4烷基,具1至9个卤原子之C1-4卤 烷 基,C1-4烷氧基,具1至9个卤原子之C1-4卤烷氧基,C1-4 烷硫基,硝基及氰基。3.如申请专利范围第2项之方 法,其中杂环A系未被取代或 带有1至3个取代基包含卤素,C1-3烷基,C1-3卤烷基及 具 1至7个卤原子之C1-3卤烷氧基,及C1-3烷氧基。4.如申 请专利范围第3项之方法,其中A系啶基或 唑基。5. 如申请专利范围第1项之方法,其中B系苯基,3- 啶基 或5- 唑基,系未被取代或被1或2个基所取代,该取代 基 包含卤素,C1-3烷基、C1-3卤烷基及具1至7个卤原子 之C1 -3卤烷氧基,及C1-3烷氧基。6.如申请专利范围第4项 之方法,其中A系3- 啶基,2-卤 啶-5-基,2,3-二卤 啶-5-基或2-卤 唑-5-基,1-氧 啶-3-基,1-氧-2-卤 啶-5-基或1-氧-2,3-二卤 啶- 5-基。7.如申请专利范围第1项之方法,其中R1.系氢; R2系氢 ,甲基,乙基,或环丙基,及A系 啶基,1-氧 啶基, 唑基或 啶基,1-氧 啶基或 坐基,各被1至3个取代 基所取代,该取代基包含卤素,C1-3烷基,C1-3卤烷基, 及具1至7个卤原子之C1-3卤烷氧基,及C1-3烷氧基。8. 如申请专利范围第1项之方法,其中R1系氢。9.如申 请专利范围第4项之方法,其中R2系氢,C1-3烷基 或环丙基。10.如申请专利范围第6项之方法,其中A 系氯 啶-5-基或 2-氯三唑-5-基。11.如申请专利范围第1项之方法,其 中R2系甲基。12.如申请专利范围第2项之方法,其中 R3系C1-3烷基,环 丙基,环己基,苯基或 基。13.一种制备式(Ⅱ)化合 物之方法:其中A,R1,R2及R3如 申请专利范围第1项之方法中定义,其中a)使式(Ⅲ) 化合 物于温度0至140℃及正常或高压力以水,芳烃,醚,卤 化 烃或其混合液当作惰性溶剂与甲醛,或对甲醛,及 式(Ⅳ) 化合物反应:及b)使所得式(Ⅴ)化合物于温度-20至 140℃ 及正常或稍高压力在非质子性稀释剂或溶剂中,较 佳于硷 存在中,与式(Ⅵ)化合物反应:式(Ⅲ)至(Ⅵ)中,R1,R2 ,R3及A如申请专利范围第1项之方法中所定义,及X系 卤
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