VERFAHREN ZUR SELEKTIVEN EXPOSITION DER SEITENWAENDE EINES GRABENS UND DESSEN VERWENDUNG FUER DIE HERSTELLUNG VON EINEM SUBSTRATKONTAKT AUS METALLSILIZIDEN MIT DIELEKTRISCHEM MATERIAL GEFUELLTEN GRAEBEN ISOLIERTER ANORDNUNGEN.,申请号DE19853586554T-传众专利搜索

发明名称	VERFAHREN ZUR SELEKTIVEN EXPOSITION DER SEITENWAENDE EINES GRABENS UND DESSEN VERWENDUNG FUER DIE HERSTELLUNG VON EINEM SUBSTRATKONTAKT AUS METALLSILIZIDEN MIT DIELEKTRISCHEM MATERIAL GEFUELLTEN GRAEBEN ISOLIERTER ANORDNUNGEN.
摘要
申请公布号	DE3586554(T2)	申请公布日期	1993.04.08
申请号	DE19853586554T	申请日期	1985.06.03
申请人	INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORP., ARMONK, N.Y., US	发明人	GOTH, GEORGE RICHARD;HANSEN, THOMAS ADRIAN, POUGHKEEPSIE NEW YORK 12603, US;MAKRIS, JAMES STEVE, WAPPINGERS FALLS NEW YORK 12590, US
分类号	H01L21/761;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/74;H01L21/76;H01L21/762;H01L29/41;(IPC1-7):H01L21/74	主分类号	H01L21/761
代理机构		代理人
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