发明名称 反射体
摘要 一种曲面状反射体,系以平板状反射体之可挠性基板侧为凹面弯折成曲面之曲率半径在5mm以下而形成者,该平板状反射体系藉由接着剂层将形成有高反射层之可挠性基板的高反射层侧积层于支持体上所构成之反射体,且该支持体与形成有高反射层之可挠性基板间密着强度为100g/cm 以上,接着剂层之层厚为0.5μm以上、50μm以下。
申请公布号 TW205099 申请公布日期 1993.05.01
申请号 TW081104120 申请日期 1992.05.26
申请人 三井东压化学股份有限公司 发明人 高濑三男;福田信弘
分类号 G02B5/08 主分类号 G02B5/08
代理机构 代理人 陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼;蔡坤财 台北巿松江路一四八号十二楼之三
主权项 1﹒一种曲面状反射体,系以平板状反射体之可挠性基板侧为凹面弯折成曲面之曲率半径在5mm以下而形成者,该平板状反射体系藉由接着剂层将形成有高反射层之可挠性基板的高反射层侧积层于支持体上所构成之反射体,且该支持体与形成有高反射层之可挠性基板间密着强度为100g/cm以上,接着剂层之层厚为0﹒5um以上、50m以下。2﹒如申请专利范围第1项之反射体,其形成高反射层之可挠性基板及于实质上可遮断紫外线之可挠性基板的一面上横层含有银之高反射层所形成的。3﹒如申请专利范围第2项之反射体,其可挠性基板在波长380-300nm之光线下透过率为10%以下。4﹒如申请专利范围第1项之反射体,其形成高反射层之可挠性基板的可见光反射率为80%以下。5﹒一种平板状反射体,系藉接着剂层将形成有高反射层之可挠性基板的高反射层侧积层于支持体上所构成的反射体,且该支持体与形成有高反射层之可挠性基板间密着强度为100g/cm以上,接着剂层之层厚在0﹒5/m以上、50m以下。图示简单说明:第1图系表示被弯折加工之反射板的一实施例的断面图。第2图系表示被弯折加工之反射板的另一实施例之断面图。第3图系表示本发明平板状反射体之断面图。第4图系表示使用本发明反射板之使用例的斜视图。第5图系表示一般向后照射光线用反射板构成之断面图。
地址 日本