| 主权项 |
1﹒一种制造式(I)化合物的方法R为C1─C6烷基;W为氰(CN)或二氧化氮(NO2);X为卤素或CH2;Y为CF2或卤素;Z为CF2,卤素或经C1─C3烷基或卤素取代之苯基;其特征在使式(II)之化合物其中W,X、Y及Z如前所述,与一莫耳当量的二卤甲烷存在于两莫耳当量的硷金属C1─C2烷氧化物及视需要约一莫耳当量的硷金属氢化物及溶剂反应。2﹒根据申请专利范围第1项的方法,其中二卤甲烷为溴氯甲烷,硷金属C1─C6烷氧化物为乙氧化钠,而硷金属氢化物是氢化钠。3﹒根据申请专利范围第1项的方法,其中二卤甲烷为二溴甲烷。4﹒根据申请专利范围第1项的方法,其中溶剂为四氢喃。5﹒根据申请专利范围第1项的方法,其中W为(N或NO2,X为卤素,Y为卤素或CF,Z是卤素或是被1至2个卤素任意取代之苯基。6﹒根据申请专利范围第1项的方法,其中W为CN,X为卤素,Y为CF3,Z是被1至2个卤素任意取代之苯基。7﹒根据申请专利范围第1项的方法,其中式(I)之化合物为4─溴─2(对─氯苯基)─1─(乙氧基甲基)─5─(三氟甲基)咯─3─。8﹒根据申请专利范围第1项的方法,其中式(I)之化合物为4─氯─2─(对─氯苯基) ─1─(乙氧基甲基)─5─(三氟甲基)咯─3─。9﹒根据申请专利范围第1项的方法,其中式(I)之化合物为2,4─二氯─5─(3,4─二氯苯基)─1─(乙氧基甲基)咯─3─。 |
