PROCESS FOR ELECTRON BEAM VAPOUR DEPOSITION WITH A MULTI-COMPONENT DEPOSITION MATERIAL

摘要

Die bekannten Verfahren zum Bedampfen durch Beaufschlagen des Verdampfungsmaterials, welches aus mehreren Komponenten (Legierungen, Mischungen, Verbindungen) besteht, gewährleisten keine hohe Schichtqualität. Die Schichten sind schwer mit konstanter Zusammensetzung und Dicke definiert aufzudampfen. Erfindungsgemäss wird in-situ die vom Verdampfungsmaterial am Auftreffort des Elektronenstrahls emittierte Röntgenstrahlung gemessen. Das gewonnene Signal wird als Führungsgrösse zur Regelung der Parameter des Verdampfungsprozesses und damit zur Regelung der Beschichtungsrate und der stofflichen Zusammensetzung der aufgebrachten Schicht verwendet. Das Verfahren findet zur Erzeugung korrosionsfester, hochtemperaturfester, verschleissarmer oder optischer Schichten, z.B. auf Bandstahl oder Kunststoffolien, Anwendung.