发明名称 用以执行金属之热化学处理之物理蒸气沈积方法之炉
摘要 在一金属之热化学处理之物理蒸气沉积方法中,构成处理炉之一第一电极之靶之基质乃以一电性电弧放电所选择性支持之离子冲击而蒸发。以此方式蒸发之粒子乃沉积在一基底上,在一第二电极之电位,此第二电位与第一电极之电位不同。此基底在沉积中乃加热至一超过600℃之处理温度且最好在800℃和1200℃之间。在炉中,此靶和其附属构件乃藉由一冷却流体流连续的冷却,因此当处理温度到达后,靶之材料仍保持固态,且发生在靶表面之蒸发可藉由昇华而作用。此结果改善了沉积之规则性,其对于基底之附着,和处理时间。
申请公布号 TW257796 申请公布日期 1995.09.21
申请号 TW080109503 申请日期 1991.12.03
申请人 创新股份有限公司 发明人 艾利克.戴蒙;派克.贾奎特;乔治.德凡克斯
分类号 C23C14/26 主分类号 C23C14/26
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.一种用以执行金属之热化学处理之物理蒸气沈积方法之炉,其中构成处理炉之一第一电极之靶之基质藉由选择性辅助之电性电弧放电之离子冲击而蒸发,且以此方式蒸发之粒子乃沈积在一基底上,该基底位在一第二电极之电位上,该第二电位与第一电极之电位不同,该基底在沈积中受加热至一超过600℃之处理温度,且最好在800℃和1200℃之间,在炉中,该靶和其附属构件以一冷却流体流连续的冷却,因此,当处理温度到达后,靶之材料仍保持固态,且发生在靶表面之蒸发可藉由昇华而作用,该炉包含一密封外罩,该密封外罩包括一热绝缘材料铸件,该铸件界定一实验室,其中欲被处理之零件可以置放在导电材料支持上,于此施加一偏压电压,外罩之内部体积连接以一真空泵站和一用以使中性气体或反应气体可藉由一涡轮机在炉内做对流而分布之电路,该零件由在铸件内之电加热元件所加热,该炉被安装以至少一蒸气产生器,而该蒸气产生器之靶乃安置在铸件内,接近欲被处理之零件,该蒸气产生器包含:-一支持结构,其以管状衬套之形式封闭于一端以携带该靶,而在另一端提供以一凸缘,该凸缘安装,固定且密封在炉之外罩之一管口,且为电绝缘;-绝缘材料块,其封闭管状衬套,且经由此穿越一电性导电杆,此导电杆轴向的在衬套内延伸且电性的连接至靶,该靶被连接至一电路且包含一轴向通道;-电磁线圈环绕该杆接近该靶;和-一冷却电路,其包含一冷却流体入口管,其穿越该块且连接于该轴向通道,一管口在该杆上接近该靶以提供界于该轴向通道和在该管状衬套和该杆间之中介空间间之连接,和一回归管其穿越该块并释放于该中介空间。2.如申请专利范围第1项之炉,其中该蒸气产生器进一步包含一绝缘管其与界于该块和一套筒间之杆同轴的安置,且界于该管和该杆间之空间与该入口管和该轴向通道经由在该杆上之孔连接。3.如申请专利范围第1项之炉,进一步包含一移动电极,其适用于该靶上初使化一电弧放电。4.如申请专利范围第1项之炉,其中该蒸气产生器包含一在一浮动电位上之萤幕,其以环状之形式在该靶上环绕并滑动。图示简单说明:图1和图2乃 是装有4个蒸气产生器之热处理炉在水平截面(图1)和垂直截面图(图2)之示意图。图3乃是可使用以执行依照本发明之方法之蒸气产生器在轴截面上之扩大图。图4至图10乃是显示依照本发明之方法不同型式之处理下
地址 法国
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