| 主权项 |
1. 一种玻璃弯曲炉(1),其包含:-多个用于加热玻璃片(20,21)至其弯曲温度的辐射性主要加热元件(37),-至少一个用于导引辐射热的遮蔽物(35,45,115,125),该遮蔽物系置于炉内由该玻璃片占有的位置与该主要元件相同的一边,及-用于使该玻璃片在炉内行进的装置(52,53,54,55),其特征在于:该炉包含至少一个其中装有该主要元件及该遮蔽物的差异加热区域(S3,S4),及一个构成该加热元件(37)且位于最球近该遮蔽物的辐射性主要加热元件。2. 如申请专利范围第1项的炉,其中该遮蔽物系置于该等主要加热元件的中央区间(33)。3. 如申请专利范围第1项的炉,其中该遮蔽物系置于该等主要加热元件的周边区间(30,31,32,34)。4. 如申请专利范围第1,2或3项之炉,其中该遮蔽物系用于控制玻璃片的截面曲度剖面(103)。5. 如申请专利范围第1,2或3项之炉,其中由该等主要加热元件(37)所提供的加热功率密度 比与在该区域中其他地方与该遮蔽物相邻者还大。6. 如申请专利范围第1,2或3项之炉,其中由该等主要加热元件(37)系电子元件。7. 如申请专利范围第1,2或3项之炉,其中该遮蔽物(35,45,115,125)系由炉结构所支持。8. 如申请专利范围第7项之炉,其中该遮蔽物系由炉顶所支持。9. 如申请专利范围第1,2或3项之炉,其中该遮蔽物(35,45,115,125)系实质上垂直的并由相邻的炉结构伸延至该等主要加热元件(37)之外。10. 如申请专利范围第9项的炉,系适用于使具有镜像对称轴(A-A)的玻璃片弯曲,其中大体上由遮蔽物界定的平面系与该轴成直角。11. 如申请专利范围第1,2或3项之炉,其中由该等主要加热元件(37)所辐射的热部份系直接对于该玻离片上。12. 如申请专利范围第1,2或3项之炉,其包含用于从炉外调整遮蔽物位置的调整装置。13. 如申请专利范围第1,2或3项之炉,其中至少一个直接与遮蔽物相邻的加热元件系伸延成与该遮蔽物平行,且在相同的区域内至少一个其他的加热元件系伸延成与那个加热元件成直角。14. 如申请专利范围第1,2或3项之炉,其中玻璃片配对(20,21)系支承于一个重力弯曲的环形铸模(52)上,而且两者同时在炉内行进。15. 15.如申请专利范围第14项的炉,其中在该区域内的遮蔽物系伸延成大体上与该铸模(52)在该区域内行进的方向垂直。16. 如申请专利范围第1,2或3项的炉,其包含连续的加热、弯曲加热、及退火的区段(S2-S5),其中该加热及弯曲加热区段(S3-S4)中至少一个系包含至少一个如其申请专利范围所界定的差异加热区域,及用以使一或多个玻璃片(20,21)在该连续的区段间行进的输送装置(52-55)。17. 一种具有至少一个装有多个主要加热元件的差异加热区域之玻璃弯曲炉,其特征在于一个用以导引由该等加热元件所辐射的热之遮蔽物,如此可以达到对该玻璃片的差异加热控制,且该遮蔽物系与该炉相接且置于该区域中在要弯曲的璁璃片旁与该等加热元件相同的一边。18. 一种使玻璃片(20,21)弯曲的方法,其包含:-使该玻璃行经一个装有多个辐射性主要加热元件(37)的炉(1),同时-在该炉内加热该玻璃片至其弯曲温度,包括-以前异方式加热该玻璃片,包括-导引辐射热从该玻璃片一个需要较少加热的选定部份(47)至该玻璃另一个需要较多加热的选定部份(46),因此在这些部份间建立一个想要的温度差异,而且系由至少一个遮蔽物(35,45,115,125)的方式导引该热,该遮蔽物系位于炉内对该玻璃片与该主要元件相同的一边,-弯曲该玻璃片至一预定的形状,及-冷却该弯曲的玻璃片其特征在于:该炉包含至少一个其中装有该主要元件及该遮蔽物的差异加热区域,及一个构成该加热元件且位于最靠近该遮蔽物的辐射性主要加热元件。19. 如申请专利范围第19项的方法,其中形成于该玻璃片二个选定部份之间的温度差异系产生存弯曲该玻璃片时想要的截面曲度。20. 如申请专利范围第18或19项的方法,其包含利用重力弯曲过程使该玻璃片弯曲。21. 如申请专利范围第18或19项之的方法,其包含使该玻璃片进行一个压力弯曲步骤。22. 如申请专利范围第18或19项的方法,其包含当该玻璃片要冷却时使其退火。23. 如申请专利范围第18或19项的方法,其中该炉包含至少一个差异加热区域,该方法包含当该璁璃片行进时以该差异加热区域指示该玻璃片。24. 一种使玻璃片弯曲的方法,其中该璁璃片被加热至弯曲的温度,导引由该炉的主要加热元件所辐射的热至该玻璃片的一或多个选定部份,并藉由该玻璃片所经过的导引装置在该玻璃片的这些的部份与其他部份间形成一个想要的温度差异,使该玻璃片弯曲成预定的形状,再使该弯曲的玻璃片退火或回火。图示简单说明:第1图是包括有许多加热区域的玻璃弯曲炉之结构正视图,其中有些区域是用于使玻璃片弯曲。第2图是可以在第1图炉中弯曲的玻璃片平面图。第3图是第1图中一个加热区域安置的多倍放大结构平面图,其中包括有六个依照本发明的遮蔽物。第4(a)及(b)图是某一个加热区域小部份的结构横截面。第5图是第1图中另一个加热区域安置与第3图相似的平面图。图6图是在第3图VI-VI箭号方向上所截取的相似放大横截面。第7图是在第5图VII-VII箭号方向上所截取的相似横截面。第8图是用在调整如第7图中所示遮蔽物的高度之装置图。第9图是该装置的另一部份,未在第8图中示出。第10图是在习知技艺坠道炉与依照本发明的炉中所测量的比较温度差异表示图。第11图是依据习知技艺与依据本发明较佳实施例所弯曲的玻璃之比较截面曲度剖面表示图。第12图是与第3图相似的平面图,但未示出额外的遮蔽物。第13图是与第5图相似的平面图,但未示出额外的遮蔽物 |
