附设槽室之分隔阀

摘要

本发明，系编入到主要在半导体制造装置等所使用的操作高纯度气体之配管路使用者。特别系，提供能把编入有分隔阀的配管路内之残留气体迅速且圆滑地抽出的附设槽室之分隔阀。将附设槽室之分隔阀，由具有入口６ａ及出口６ｂ的气体供给通路６，和以连通状态连接在气体供给通路６，有出口７ａ之分枝通路７，和具有在分枝通路７的中途所形成之槽室８的本体１和设在本体１，把比连接分枝通路７之部份更下游侧的气体供给通路６开闭之第１阀２，和设在本体１，把比槽室８更上游侧的分枝通路７开闭之第２阀３予以构成。

主权项

1. 一种附设槽室之分隔阀,其特征为,由具备具有入口(6a)及出口(6b)的气体供给通路(6),与具有分枝状地连接在气体供给通路(6)之出口(7a)的分枝通路(7),与形成在分枝通路(7)之中途的槽室(8)之本体(1),和设在本体(1),将开闭气体供给通路(6)的下游侧之第1阀(2),和设在本体(1),将开闭分枝通路(7)的上游侧之第2阀(3)构成者。2. 如申请专利范围第1项所述的附设槽室之分隔阀,其中,根据第1阀(2),使出口(6b)和分枝通路(7)的连接处之间的气体供给通路(6)开闭者。3. 如申请专利范围第1项或第2项所述的附设槽室之分隔阀,其中,根据第2阀(3),使与气体供给通路(6)的连接处和槽室8之间的分枝通路(7)开闭者。4. 如申请专利范围第1项或第2项所述的附设槽室之分隔阀,其中,分别在气体供给通路(6)的气体出口(6b)侧设置第1接头(4),同时,在分枝通路(7)之出口(7a)侧设置第2接头(5)者。5. 如申请专利范围第1项或第2项所述的附设槽室之分隔阀,其中,把第1阀(2)及第2阀(3)做为直接接触式的金属膜片阀者。6. 如申请专利范围第5项所述的附设槽室之分隔阀,其中,把直接接触式的金属膜片阀做为空气压动作式,电动式或手动式中之任何一种者。7. 如申请专利范围第1项所述的附设槽室之分隔阀,其中,根据从分枝通路(7)的出口(7a)侧排气,使槽室(8)内经常保持所定之真空状态者。图示简单说明:[图1]系有关本发明之实施例的附设槽室之分隔阀的正视图。[图2]为附设槽室之分隔阀的平视图。[图3]为附设槽室之分隔阀的一部份切开正视图。[图4]为附设槽室之分隔阀的一部份切开左侧视图。[图5]系把附设槽室之分隔阀编入气体的配管路之概略系统图。[图6]系把多数个分隔阀编入气体的配管路之概略系统