首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
端子盘保护盖
摘要
本创作系有关一种端子盘保护装置,特别系指一种轨道式端子盘保护盖崭新设计者,具有接线方便、保护端子盘及节省材料之功效者,其主要系于相对应二侧设有外缘卡槽,下端面设有适当数量之纵向卡槽及横向卡槽,该保护盖于端子盘上接线螺丝上方之相对位置上各开设有贯穿保护盖之操作孔者;如是构成之本创作,该保护盖系以射出成型方式形成,以嵌合方式与端子盘各相对嵌合缘卡嵌,可有效节省用防尘盖浪费之材料,又纵向配线施工时,在振动、搬动的过程中,可防止保护盖之滑落,且该保护套除具备保护端子盘诸功效外,其上端面上所开设之操作孔,可在不取下保护盖之情况下做配线施工者为其特征。
申请公布号
TW274385
申请公布日期
1996.04.11
申请号
TW083200459
申请日期
1994.01.13
申请人
马可企业有限公司
发明人
萧裕杰
分类号
H01R13/447
主分类号
H01R13/447
代理机构
代理人
主权项
一种「端子盘保护盖」,主要系于相对应二侧设有外缘卡槽,下端面设有适当数量之纵向卡槽及横向卡槽,该保护盖于端子盘上接线螺丝上方之相对位置上各开设有贯穿保护盖之操作孔者;如是构成之本创作,该保护盖系以射出成型方式形成,以嵌合方式与端子盘各相对嵌合缘卡嵌,且该保护套除具备保护端子盘诸功效外,其上端面上所开设之操作孔,可在不取下保护盖之情况下做配线施工者为其特征。图示简单说明:附图一习用端子盘防尘盖实施例立体分解图。附图二系本创作立体图。
地址
桃园巿寿山路一九四号
您可能感兴趣的专利
POLYESTERS LINEAIRES A BASE D'ACIDE TEREPHTALIQUE ET/OU ISOPHTALIQUE ET DE BENZIMIDAZOLONES SUBSTITUEES
ECHAFAUDAGES
MATIERE PHOTOGRAPHIQUE PHOTOSENSIBLE
INSTALLATION POUR LA PREPARATION DE PRODUITS AMYLACES
PERFECTIONNEMENTS DANS LA CONSTRUCTION DE BATEAUX-ATELIERS COMBINES AVEC TRANSPORT PAR CONTENEURS.
BIGOUDI
GROUPES MOTEURS A VAPEUR
DISPOSITIF DE MESURE DU NIVEAU D'UN LIQUIDE
INSTALLATION DE TRANSPORT CONTINU PAR RAMES DE VEHICULES PROGRAMMES
PROCEDE ET APPAREILLAGE POUR LE TRAITEMENT CONTINU DES FILS
BROYEUR DE DECHETS
RUBAN POUR FERMETURE A CURSEUR
VONKVERSTERKER.
RADIATEUR POUR CHAUFFAGE DE LOCAL
INTERRUPTEUR ROTATIF
JEU DE SOCIETE DE GENRE POLICIER FORME PRINCIPALEMENT DE CARTES A JOUER.
GRUE A TOUR AUTOMONTANTE A L'AIDE DE PANTOGRAPHES
NOUVEL HERBICIDE A BASE DE 4-TRIFLUOROMETHYL-2'-HALO-4'-NITRO DIPHENYLETHER
USTENSILE CERAMIQUE ELECTRIQUE
PROCEDE D'HYDROGENATION CATALYTIQUE ET PRODUITS OBTENUS PAR SA MISE EN OEUVRE