| 主权项 |
1. 一种用于准备图案重叠准确量测用标记之方法,其中包含以下步骤:施加照相蚀刻至一个成形于晶圆之标记描绘线上的第一层,用以沿着一已预先设定之外箱的内侧边界线形成一个四角形沟槽;在整个第一层之表面上形成一第二层,而且藉由照相蚀刻,除去第二层中的四角形区域,用以形成外箱;在整个第二层之表面上形成一金属层;以及藉由使用位于金属层之上的光敏薄膜四角形图案,在外箱之中央部位处形成一个内箱。2. 如申请专利范围第1项之用于准备图案重叠准确量测用标记的方法,其中该第一层与该第二层两者在蚀刻选择的比例上会有所差异。3. 如申请专利范围第2项之用于准备图案重叠准确量测用标记的方法,其中该第一层是由隔离用材料所组成的。4. 如申请专利范围第2项之用于准备图案重叠准确量测用标记的方法,其中该第二层是由聚合矽所组成的。5. 如申请专利范围第1项之用于准备图案重叠准确量测用标记的方法,其中该金属层是由钨或铝一铜一矽合金所组成的。6. 如申请专利范围第1项之用于准备图案重叠准确量测用标记的方法,其中该四角形沟槽的宽度大小为1到3m。7. 一种用于准备图案重叠准确量测用标记之方法,其中包含以下步骤:施加照相蚀刻至一个成形于晶圆之标记描绘线上的第一层,用以沿着一已预先设定之外箱的内侧边界线形成一个四角形沟槽;在整个第一层之表面上形成一第二层,而且藉由照相蚀刻,除去第二层中的四角形区域,用以形成带有可以从四角形区域中间得到光线照射之沟槽的外箱;在整个第二层之表面上形成一金属层;以及藉由使用位于金属层之上的光敏薄膜四角形图案,在外箱之中央部位处形成一个内箱。8. 如申请专利范围第7项之用于准备图案重叠准确量测用标记的方法,其中该金属层是由钨或铝一铜一矽合金所组成的。9. 如申请专利范围第7项之用于准备图案重叠准确量测用标记的方法,其中该四角形沟槽的成形是藉由使用已应用于形成该外箱之相同光罩。10. 一种用于准确图案重叠准确测用标记之方法,其中包含以下步骤:以第二层盖住涂布于晶圆之标记描绘线上的整个第一层上侧表面,同时,藉由照相蚀刻而除去该第二层中四角形区域,用以形成一个外箱;将该第一层的曝露区域加以蚀刻,用以沿着该外箱之内侧边界线形成一个沟槽;以及在所制作完成之构造的整个表面上形成一金属层,同时,藉由使用位于金属层之上的光敏薄膜四角形图案,在外箱之中央部位处形成一个内箱。11. 如申请专利范围第10项之用于准备图案重叠准确量测用标记的方法,其中该金属层是由钨或铝一铜一矽合金所组成的。12. 如申请专利范围第10项之用于准备图案重叠准确量测用标记的方法,其中该第一层是由内聚合氧化物所组成的。13. 如申请专利范围第10项之用于准备图案重叠准确量测用标记的方法,其中该第二层是由内聚合可矽物质所组成的。图示简单说明:图1为依照传统方法之重叠准确量测用标记的配置图;图2为通常经过图1之直线Ⅱ-Ⅱ所取的概略横剖面视图;图3为依照本项发明之重叠准确量测用标记的配置图;图4A到图4F为通常经过图3之直线Ⅱ-Ⅱ所取的概略横割面 |
