| 主权项 |
1. 一种异物检查装置,系用来检测被检测物表面所存在之异物,其特征为包含有:(A) 雷射光源,可射出具有1km以上可干扰距离之雷射光;(B) 扫描装置,可使由上述雷射光源所射出之雷射光对被检测物表面进行扫描;(C) 光检测装置,用来检测被检测物表面所反射、绕射之光;(D) 载物台,用来载置被检测物俾使被检测物移向指定之方向;以及(E) 气体供给装置,可使被检测物所配置之环境控制成高纯度惰性气体环境。2. 如申请专利范围第1项之异物检查装置,其中上述雷射光源系由;(A) 由雷射二极体、Nd:YAG形成之固态雷射媒质、以及非线性光学结晶元件所构成,可射出第2高谐波的LD激发固态雷射;(B) 由非线性光学结晶元件及光共振器所构成之第2高谐波产生装置;以及(C) 用来控制上述光共振器之共振器光路长度的共振器光路长度控制装置所构成;上述LD激发固态雷射所射出之光被射入第2高谐波产生装置,然后,再从该第2高谐波产生装置射出一具有该入射光之第2高谐波之波长的光。3. 如申请专利范围第2项之异物检查装置,其中上述雷射光源另备有光路分歧装置用以使LD激发固态雷射所射出之雷射光之一部分射入扫描装置。4. 如申请专利范围第3项之异物检查装置,其中上述光路分歧装置和扫描装置之间另设有可干扰距离减少装置。5. 如申请专利范围第2项之异物检查装置,其中另备有光路分歧装置用以使第2高谐波产生装置所射出之雷射光之一部分产生分歧,以及设在该光路分歧装置和扫描装置间的可干扰距离减少装置。6. 一种异物检查方法,其特征在于:使被检测物所配置之环境成为高纯度惰性气体环境,然后,一边使被检测物移向指定之方向,一边以波长为且具1km以上之可干扰距离之雷射光对被检测物表面进行扫描,同时,藉由检测该被检测物之表面所反射、绕射之光来检测出存在于被检测物表面之异物。7. 如申请专利范围第6项之异物检查装置,其中更包含有:当以波长为且具1km以上之可干扰距离之雷射光扫描被检测物表面之结果,发现该被检测物表面所反射、绕射之光之强度有异常时,再以另一波长为,且具1km以上之可干扰距离之雷射光对该异常之区域进行扫描之工程。8. 如申请专利范围第7项之异物检查方法,其中波长为及波长为之雷射光系从同一雷射光源射出,该雷射光源系由:(A) 由雷射二极体、Nd:YAG形成之固态雷射媒质、以及非线性光学结晶元件所构成,可射出第2高谐波的LD激发固态雷射;(B) 由非线性光学结晶元件及光共振器所形成之第2高谐波产生装置;(C) 用来控制该光共振器之共振器光路长度的共振器光路长度控制装置;以及(D) 用以使LD激发固态雷射所射出之雷射光之一部分射入扫描装置的光路分歧装置所构成;上述LD激发固态雷射所射出波长为或之光被射入第2高谐波产生装置,然后,具有该入射光之第21高谐波之波长或之光被从第2高谐波产生装置射出。9. 如申请专利范围第6项之异物检查方法,其中更包含有:当以波长为且具1km以上之可干扰距离之雷射光对被检测物之表面进行扫描之结果,发现该被检测物表面所反射、绕射之光之强度有异常时,再以具1km以下之可干扰距离之雷射光对该异常之区域进行扫描之工程。图示简单说明:图1:实施例1之异物检查装置之原理图。图2:实施例1之异物检查装置之概要图。图3:实施例1之异物检查装置所使用之雷射光源之概要之模式图。图4:音圈马达之模式图。图5:构成共振器长控制装置之VCM控制电路之构造图。图6:实施例2之异物检查装置之原理图。图7:实施例3之异物检查装置之原理图。图8:实施例3之异物检查装置变形例之原理图。图9:实施例3之异物检查装置另一变形例之原理图。图10:移相光罩及雷本宋(M.D.Levenson)式移相光罩之模式之部分之断面图。图11:异物之有无所造成之雷射光之散乱、绕射现象、或 |
